[发明专利]带电装置及图像形成装置在审

专利信息
申请号: 202010175507.6 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN112526847A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 饭田纮史 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G15/05 分类号: G03G15/05
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄志坚;崔成哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 带电 装置 图像 形成
【说明书】:

发明提供带电装置及图像形成装置。带电装置具备:第1带电单元,其与被带电单元接触,使所述被带电单元以第1带电电位带电;以及第2带电单元,其在比所述第1带电单元靠所述被带电单元的移动方向的上游的一侧与所述被带电单元接触,使所述被带电单元以第2带电电位带电,其中,所述第2带电电位低于所述第1带电电位。

技术领域

本公开涉及带电装置及图像形成装置。

背景技术

以往,作为与带电装置相关的技术,例如已经提出了具备多个带电构件的技术(日本特开2007-33835号公报)。

所述日本特开2007-33835号公报构成为具有:第1带电构件,其使被带电体以目标电位带电;第2带电构件,使所述被带电体以与目标电位相反的极性预先带电;以及控制单元,其控制通过所述第2带电构件而以相反的极性带电的带电电位,使得在通过所述第1带电构件带电时,在所述第1带电构件中流动的直流电流成为规定值以上。

发明内容

本公开的目的在于,相比于在比第1带电单元靠被带电单元的移动方向的上游的一侧与被带电单元接触的第2带电单元的第2带电电位高于第1带电电位的情况,抑制被带电体的带电电位的偏差。

根据本公开的第1方案,提供一种带电装置,其中,该带电装置具备:第1带电单元,其与被带电单元接触,使所述被带电单元以第1带电电位带电;以及第2带电单元,其在比所述第1带电单元靠所述被带电单元的移动方向的上游的一侧与所述被带电单元接触,使所述被带电单元以第2带电电位带电,其中,所述第2带电电位低于所述第1带电电位。

根据本公开的第2方案,具有对所述第1带电单元及第2带电单元共同地施加电压的电压施加单元。

根据本公开的第3方案,所述第2带电单元与所述第1带电单元相比,被形成为高电阻。

根据本公开的第4方案,所述第2带电单元与所述被带电单元接触的接触载荷低于所述第1带电单元与所述被带电单元接触的接触载荷。

根据本公开的第5方案,所述第1带电单元及第2带电单元分别具有施加电压的电压施加单元。

根据本公开的第6方案,向所述第2带电单元施加电压的电压施加单元的施加电压低于向所述第1带电单元施加电压的电压施加单元的施加电压。

根据本公开的第7方案,提供一种图像形成装置,其中,该图像形成装置具备:保持图像的像保持单元;以及使所述像保持单元带电的带电单元,作为所述带电单元,使用了所述带电装置。

(效果)

根据所述第1方案,相比于在比第1带电单元靠被带电单元的移动方向的上游的一侧与被带电单元接触的第2带电单元的第2带电电位比第1带电电位高的情况,能够抑制被带电体的带电电位的偏差。

根据所述第2方案,相比于在第1带电单元及第2带电单元分别独立地设置有电压施加单元的情况,电压施加单元可以为1个。

根据所述第3方案,相比于第2带电单元与第1带电单元相比未形成为高电阻的情况,能够不追加构件而变更带电电位。

根据所述第4方案,相比于第2带电单元的与被带电单元接触的接触载荷和第1带电单元的与被带电单元接触的接触载荷相等的情况,能够不追加构件而变更带电电位。

根据所述第5方案,相比于第1带电单元及第2带电单元共同地具有施加电压的电压施加单元的情况,施加电压的设定变得容易。

根据所述第6方案,相比于向第2带电单元施加电压的电压施加单元的施加电压不低于向第1带电单元施加电压的电压施加单元的施加电压的情况,被带电单元的带电电位的设定变得容易。

根据所述第7方案,相比于作为带电单元而不使用所述带电装置的情况,能够抑制像保持单元的带电电位的偏差。

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