[发明专利]一种紫外照射剂量的自动控制方法和紫外消毒杀菌设备在审
申请号: | 202010177362.3 | 申请日: | 2020-03-13 |
公开(公告)号: | CN111388696A | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 潘建根 | 申请(专利权)人: | 浙江维尔科技有限公司 |
主分类号: | A61L2/10 | 分类号: | A61L2/10;A61L2/24;A61L9/20 |
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地址: | 310053 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外 照射 剂量 自动控制 方法 消毒 杀菌 设备 | ||
1.一种紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,包括以下步骤;
S1,紫外光源打开对目标区域进行照射;
S2,根据消灭病毒或细菌需要的紫外辐射剂量,和所述病毒或细菌的紫外敏感度,以及已知的所述紫外光源的辐射照度,计算得到所述紫外光源需要对所述目标区域的照射时长t;
S3,当所述紫外光源对所述目标区域的照射时长达到t或略长于t时,所述紫外光源关闭。
2.如权利要求1所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,根据以下公式计算得到照射时长t:
其中,为所述病毒或细菌需要的紫外辐射剂量,为所述病毒或细菌的紫外敏感度,为所述紫外光源的辐射照度。
3.如权利要求1所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,根据以下公式计算得到照射时长t:
其中,为所述病毒或细菌需要的紫外辐射剂量,为所述病毒或细菌的紫外敏感度,为所述紫外光源的辐射照度。
4.如权利要求1所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,包括温度传感器,所述温度传感器测得环境温度T,通过所述的环境温度T调取相应温度下所述紫外辐射剂量,和所述紫外敏感度的数据。
5.如权利要求4所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,结合所述环境温度T和所述紫外光源在照射时长影响下的波动两个因素,按照以下公式得到更精确的照射时长t,:
其中,为环境温度T下所述病毒或细菌需要的紫外辐射剂量,为环境温度T下所述病毒或细菌的紫外敏感度,为所述紫外光源在照射时长t影响下的辐射照度。
6.如权利要求1所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,包括监测单元,所述监测单元实时对所述紫外光源的波动进行监测。
7.如权利要求1所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,所述紫外光源为UVC波段。
8.如权利要求1所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,所述紫外光源为紫外LED光源。
9.如权利要求1所述的紫外照射剂量的自动控制方法,其特征在于,还包括第一传感器和控制单元;所述控制单元通过所述第一传感器感知所述目标区域被触碰或被外物进入,来控制所述紫外光源的打开;所述控制单元获取所述紫外光源的照射时长,当照射时长达到或略长于t时,控制所述紫外光源关闭。
10.一种紫外消毒杀菌设备,其特征在于,包括紫外光源、控制单元和消杀区域;所述控制单元通过如权利要求1~9的任意一种紫外照射剂量的自动控制方法,控制所述紫外光源对所述消杀区域进行自动化地照射。
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