[发明专利]分析装置

权利要求书

1.一种分析装置，具备：

比色皿台，通过将比色皿的列以环状配置而成；

驱动部，使所述比色皿的列沿环状方向反复地间歇旋转；

测光部，向所述间歇旋转的期间中经过测光位置的各比色皿照射光，对来自经过该测光位置的各比色皿的被照射区域的出射光进行测光；

分析部，基于所述测光而得到的测光数据，对所述比色皿的收容物进行分析；

可测定区域检测部，在所述各比色皿的所述被照射区域之中，将伴随着所述比色皿的所述经过而所述出射光的变化量为规定变化量以下的所述比色皿的区域，检测为所述各比色皿各自的可测定区域；以及

基准定时设定部，将所述各比色皿的可测定区域中包含的第1基准点经过所述测光位置的时刻，分别设定为用于确定在所述各比色皿的所述分析中使用的分析对象区域的基准定时。

2.如权利要求1所述的分析装置，

所述比色皿是收容被检体及试剂并使其反应的比色皿，

所述分析部按每次所述间歇旋转，针对所述各比色皿的所述分析对象区域中的多个测光点，分析所述被检体及所述试剂的反应液。

3.如权利要求1或者权利要求2所述的分析装置，

所述第1基准点位于所述比色皿的所述环状方向的中间区域。

4.如权利要求1至权利要求3中的任一项所述的分析装置，

所述第1基准点位于所述比色皿的所述环状方向的中点。

5.如权利要求1至权利要求4中的任一项所述的分析装置，

所述可测定区域检测部为：在所述各比色皿的所述被照射区域之中，将伴随着所述比色皿的所述经过而所述出射光的变化量超过规定变化量、且比所述可测定区域更靠所述比色皿的移动方向的上游侧的所述比色皿的区域，检测为所述各比色皿各自的可测定外区域，

所述基准定时设定部为：将所述各比色皿的所述可测定外区域中包含的第2基准点经过所述测光位置的时刻，分别确定为所述各比色皿中开始存储所述测光数据的存储开始定时，使从该存储开始定时起规定期间的所述测光数据存储于存储部。

6.如权利要求5所述的分析装置，

所述分析部将所述测光数据从所述存储部读出，基于该读出的测光数据中的所述基准定时、以及与所述各比色皿分别建立了对应的校正值，确定在所述分析中使用的分析对象区域，基于该分析对象区域，分析所述比色皿的收容物。

7.如权利要求1至权利要求6中的任一项所述的分析装置，还具备：

狭缝压板，设于所述比色皿台，包括与所述各比色皿对应地配置的各狭缝；以及

传感器，对所述狭缝进行检测，

在所述传感器检测到所述各狭缝的第1端时，与该狭缝对应的所述比色皿的所述第1基准点位于所述测光位置。

8.如权利要求5至权利要求7中的任一项所述的分析装置，还具备：

狭缝压板，设于所述比色皿台，包括与所述各比色皿对应地配置的各狭缝；以及

传感器，对所述狭缝进行检测，

在所述传感器检测到所述各狭缝的第2端时，与该狭缝对应的所述比色皿的所述第2基准点位于所述测光位置。

9.如权利要求1至权利要求6中的任一项所述的分析装置，

在所述各比色皿的所述第1基准点，设有使所述出射光的强度或者波长与所述可测定区域中的其他区域不同的部件。