[发明专利]一种同步辐射X射线双反射镜

说明书

本发明公开了一种同步辐射X射线双反射镜，包括两个平面偏转镜，两个所述平面偏转镜以固定的角度装配在反射镜内部的调整支架上。两个所述偏转镜公用一套冷却系统。两个所述偏转镜相对设置且二者相接触的两边固定锁死；两个所述偏转镜之间的夹角大于入射光与第一块镜子表面的夹角。所述调整支架的投角转轴与两个所述偏转镜的接触边相重合。本发明增大了反射光线的偏转角，便于阻挡韧致辐射，提高了高次谐波抑制比和光束角度的稳定性。双反射镜固定在单一调整机构上,镜子投角的抖动不改变出射光角度；本发明能够调整光束通量，可以通过调整镜子的投角，连续调整出射光束的通量而不改变光路，适合于不同样品对于不同光强的需求。

技术领域

本发明涉及X射线辐射装置技术领域，尤其涉及一种同步辐射X射线双反射镜。

背景技术

X射线是研究物质结构的常用探针。以高强度、高准直性的同步辐射为X射线源，则可以提高物质结构分析的时间分辨和空间分辨。平面反射镜是同步辐射装置中常用的光学元件(如图1所示)，其主要功能包括：反射同步辐射光，使其偏离改变光路，避开直通的轫致辐射(bremsstrahlung)；抑制高次谐波，缓释热负荷。

对于光束水平发散度低的光源，可以将平面偏转镜在光束线上侧向放置，以实现水平偏转光束。水平反射有以下几个好处：相对于垂直放置，水平放置在结构上具有更好的机械稳定性。在竖直方向上支架的高度和角度随温度的漂移不会引起光斑漂移,而水平方向因镜箱的尺寸相对较短，并且两端受力基本对称，温度漂移引起的角度和位移漂移容易控制。

偏转镜偏转光束的角度依据光束线结构和指标而定。现有技术都是使用一块平面偏转镜，对偏转镜稳定性的要求较高。因为偏转镜的抖动会引起光束方向和强度的波动，这对于高精度的实验是不利的。

发明内容

本发明的目的是提供一种同步辐射X射线双反射镜，解决上述背景技术中提到的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

本发明一种同步辐射X射线双反射镜，包括两个平面偏转镜，两个所述平面偏转镜以固定的角度装配在反射镜内部的调整支架上。

进一步的，两个所述偏转镜公用一套冷却系统。

进一步的，两个所述偏转镜相对设置且二者相接触的两边固定锁死。

进一步的，两个所述偏转镜之间的夹角大于入射光与第一块镜子表面的夹角。

进一步的，所述调整支架的投角转轴与两个所述偏转镜的交线相重合。

与现有技术相比，本发明的有益技术效果：

本发明增大了反射光线的偏转角，便于阻挡韧致辐射，并且提高了高次谐波抑制比。另外，本发明提高了光束角度的稳定性。双反射镜固定在单一调整机构上,镜子投角(Pitch角)的抖动不改变出射光角度。本发明能够调整光束通量。双镜子调整机构的投角转轴位于双反射镜表面的交线上,调整投角不改变光路，但反射率改变。利用该特点可以通过调整镜子的投角，连续调整出射光束的通量而不改变光路，适合于不同样品对于不同光强的需求。

附图说明

下面结合附图说明对本发明作进一步说明。

图1为现有技术反射镜示意图；

图2为本发明反射镜示意图；

图3为双平面反射镜反射原理示意图；

图4为双平面反射镜转动对光路的影响示意图；

附图标记说明：。

具体实施方式