[发明专利]晶片载置装置及其制法有效

专利信息
申请号: 202010181643.6 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN111725127B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 园田敬典 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687;H01L21/67
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;金鲜英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 晶片 装置 及其 制法
【权利要求书】:

1.一种晶片载置装置,具备:

圆盘状的陶瓷平板,其上表面具有晶片载置面,且内置有电极;

圆盘状的冷却平板,其配置于所述陶瓷平板的与所述晶片载置面相反侧的下表面;以及

树脂制的粘接片层,其将位于所述陶瓷平板的下表面的粘接面与位于所述冷却平板的上表面的粘接面进行粘接,

所述陶瓷平板的粘接面和所述冷却平板的粘接面中的至少一者,外周部的表面粗糙度Ra比内周部大。

2.根据权利要求1所述的晶片载置装置,所述电极为加热电极,分别内置于所述陶瓷平板中与所述内周部对应的内周区域和所述陶瓷平板中与所述外周部对应的外周区域。

3.根据权利要求1或2所述的晶片载置装置,所述陶瓷平板的粘接面和所述冷却平板的粘接面的半径为135mm以上。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的晶片载置装置,所述陶瓷平板的粘接面和所述冷却平板的粘接面中的至少一者,所述外周部的表面粗糙度Ra大于1.6μm。

5.一种晶片载置装置的制法,其包括下述工序:

(a)工序,准备内置有电极的圆盘状的陶瓷平板、圆盘状的冷却平板以及粘接片;

(b)工序,使用所述粘接片将所述陶瓷平板与所述冷却平板粘接,

在所述工序(a)中准备的所述陶瓷平板和所述冷却平板中的至少一者具有外周部的表面粗糙度Ra比内周部大的粘接面,

所述工序(b)中,利用外周部的表面粗糙度Ra比内周部大的所述粘接面进行粘接。

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