[发明专利]微位移测量装置有效
申请号: | 202010182848.6 | 申请日: | 2020-03-16 |
公开(公告)号: | CN113405460B | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 赖文清;秦超宇;卓俞安 | 申请(专利权)人: | 晋城三赢精密电子有限公司 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 赵文曲;饶婕 |
地址: | 048000 山西省晋城市开*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 位移 测量 装置 | ||
1.一种微位移测量装置,包括光栅尺、图像处理单元及数据处理单元,其特征在于,所述光栅尺包括光源以及依次设置在所述光源光路上的准直装置、主光栅、副光栅、影像感测芯片;所述主光栅及副光栅分别包括第一图案以及位于所述第一图案左右两侧的多个第二图案,所述主光栅及所述副光栅两者之一能相对另一个运动发生位移,所述光源发出的光能经过所述准直装置、主光栅及副光栅后能在所述影像感测芯片上形成图像,所述图像处理单元用于对所述图像进行处理,所述数据处理单元用于根据所述图像处理单元处理的结果计算得到所述位移;
其中,所述第一图案及所述第二图案共同作为图案部,所述第一图案与所述第二图案之间的间隔以及相邻的第二图案之间的间隔为空白部,所述图案部与所述空白部两者之一能透光,另一者不能透光;所述第一图案及第二图案为在所述主光栅及所述副光栅上开设形成的不同形状的凹槽。
2.如权利要求1所述的微位移测量装置,其特征在于,所述第一图案与邻近的所述第二图案之间的间距等于每两个相邻的第二图案之间的间距。
3.如权利要求1所述的微位移测量装置,其特征在于,所述第一图案为菱形凹槽、梯形凹槽,三角形凹槽、五角形凹槽或者圆形凹槽中的任意一种,所述第二图案为方形凹槽或者圆形凹槽中的一种。
4.如权利要求1所述的微位移测量装置,其特征在于,所述第一图案及第二图案为在所述主光栅及副光栅表面涂布黑漆形成。
5.如权利要求1所述的微位移测量装置,其特征在于,所述光栅尺还包括印刷电路板,所述印刷电路板包括第一线路板、第二线路板、垂直连接所述第一线路板及第二线路板的可挠曲的连接部以及与所述第一线路板连接的延伸部,所述第一线路板与第二线路板正对设置,所述影像感测芯片设置于所述第一线路板,所述光源设置于所述第二线路板,所述延伸部设置有电连接器。
6.如权利要求5所述的微位移测量装置,其特征在于,所述光栅尺还包括底座,所述底座包括上表面、下表面、连接所述上表面与所述下表面的前侧表面以及连接所述上表面、下表面的左侧面以及右侧面,所述上表面朝向下表面凹设形成容纳槽,所述前侧表面向开设形成贯穿孔,所述贯穿孔与所述容纳槽相通,所述第一线路板设置于所述容纳槽,所述延伸部从所述贯穿孔中伸出至所述容纳槽外;所述底座还包括插槽,所述插槽从左侧面延伸贯穿至右侧面,所述主光栅与所述副光栅均从所述插槽插设且所述主光栅及副光栅的两端均位于所述插槽外。
7.如权利要求6所述的微位移测量装置,其特征在于,所述光栅尺还包括设置于所述底座上的中框,所述中框包括第一表面、相对所述第一表面的第二表面以及凸出于所述第二表面的凸台,所述中框开设有位于所述凸台一侧的条形槽,所述凸台中央形成有台阶部以及位于台阶部中央的通光孔,所述通光孔包括承载台,所述准直装置设置于所述承载台;所述可挠曲的连接部穿过所述条形槽以使所述第二线路板与所述第二表面间隔设置,所述光源设置于所述第二线路板上且位于所述台阶部,所述光源发出的光束通过所述通光孔成像于所述影像感测芯片。
8.如权利要求7所述的微位移测量装置,其特征在于,还包括盖体,所述盖体包括朝向所述中框的底表面,所述底表面凹设有凹部,所述盖体盖设于所述中框,所述第二线路板收容于所述凹部。
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