[发明专利]一种足弓按摩装置在审

专利信息
申请号: 202010184065.1 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN111135060A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 李兵旗 申请(专利权)人: 李兵旗
主分类号: A61H35/00 分类号: A61H35/00;A61H15/00;A61H7/00;A61H39/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 471000 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 足弓 按摩 装置
【说明书】:

一种足弓按摩装置,在盆体上设置有盛水的泡脚区和供使用者坐着并将小腿和脚自然伸入泡脚区内的坐台,泡脚区的底部中心具有矩形凹陷,从而在矩形凹陷的两侧形成分别将脚跟和脚趾支起的脚跟接触区和脚趾接触区,进而将足弓担在矩形凹陷顶部;矩形凹陷内设置有足弓按摩辊,且足弓按摩辊由水平往复机构带动其在矩形凹陷内水平往复运动,并在运动过程中,对足弓进行按摩。本发明的足弓按摩装置能够使足弓悬空在矩形凹陷上方,这样水平往复机构带动的足弓按摩辊在水平往复机构运动时,能够对足弓部位进行反复刮擦按摩,相比较于现有的脚踩式按摩盆,不仅使用方便,而且按摩效果也更好。

技术领域

本发明涉及到健身保健领域,具体的说是一种足弓按摩装置。

背景技术

泡脚不仅能够缓解疲劳,而且还能够起到很好地养生效果,而在泡脚时,能够对足底进行按摩的话,养生效果会更好。

现有技术中,也有对脚底进行按摩的泡脚盆,其原理一般是在盆底设置按摩凸起,脚踩在按摩凸起上对脚底进行按摩。这种脚底按摩盆对足弓的按摩效果并不理想,而且得需要使用者自己的腿部进行活动才能进行按摩,也十分不便。

发明内容

本发明的目的是提供一种足弓按摩装置,该装置能够在按摩时,自动对足弓部位进行反复移动时刮擦按摩,相比较于现有的脚踩式按摩盆,不仅使用方便,而且按摩效果也更好。

本发明为实现上述技术目的所采用的技术方案为:一种足弓按摩装置,包括盆体,在盆体上设置有盛水的泡脚区,在泡脚区的一侧设置有供使用者坐着并将小腿和脚自然伸入泡脚区内的坐台,所述泡脚区的底部中心具有矩形凹陷,从而在矩形凹陷的两侧形成分别将脚跟和脚趾支起的脚跟接触区和脚趾接触区,进而将足弓担在矩形凹陷顶部;

在矩形凹陷内设置有足弓按摩辊,且该足弓按摩辊由一水平往复机构带动其在矩形凹陷内水平往复运动,并在运动过程中,对足弓进行按摩;

所述水平往复机构包括一承载足弓按摩辊的承载板,该承载板设置在盆体底部内的移动通道内,并由一曲柄滑块机构带动其做水平往复运动,在移动通道内设置有橡胶密封圈,以防止矩形凹陷内的水进入移动通道内。

本发明的一种优选实施方式为,所述坐台的底部具有可打开的动力腔,所述曲柄滑块机构设置在该动力腔内;所述坐台的顶部设有储物腔,储物腔的顶部被可打开的盖板封闭。

本发明的另一种优选实施方式为,所述承载板上对称设置有两组支架,且这两组支架上设置有轴承座,并通过轴承座将足弓按摩辊转动支承。

本发明的另一种优选实施方式为,所述支架为圆柱体,其底部设置在一圆柱套筒内,并与圆柱套筒的底部之间形成液压容腔,该液压容腔的底部与承载板内设有的液压管路连通,且液压管路的尾端通过液压软管与液压泵的液压出口连通,以通过液压泵注入或抽出液压油来调整支架的高度,进而改变足弓按摩辊凸出矩形凹陷的高度,实现对足弓按摩力度的调节。

本发明的另一种优选实施方式为,所述足弓按摩辊包括一圆柱状内芯,该圆柱状内芯的两端被支架上的轴承和轴承座转动支承,圆柱状内芯外部包覆有一层弹性橡胶层,在弹性橡胶层的外部包覆有硅胶层,且在硅胶层和弹性橡胶层之间形成的空心夹层Ⅰ内环绕弹性橡胶层的外表面均匀设置有若干刚性按摩组件,所述刚性按摩组件包括一球状连接基体Ⅰ,在该球状连接基体Ⅰ上对称设置有支撑件和按摩件,且支撑件的自由端埋设在弹性橡胶层的外表面上,按摩件的自由端穿过硅胶层上的通孔后暴露于硅胶层的外部,从而形成凸起于硅胶层表面的按摩触头,在球状连接基体Ⅰ上支撑件和按摩件之间的位置设置有三个辅助支撑件Ⅰ,这三个辅助支撑件Ⅰ环绕球状连接基体Ⅰ的球心均匀分布,其自由端均朝向弹性橡胶层表面倾斜,并与弹性橡胶层的表面具有间隙,以使弹性橡胶层和硅胶层发生相对位移导致支撑件和球状连接基体Ⅰ倾斜时,三个辅助支撑件Ⅰ中的一个、两个或三个自由端与弹性橡胶层的表面接触,从而使刚性按摩组件形成硬质按摩凸点。

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