[发明专利]像素排布优化方法、装置、透光显示面板和显示面板有效
申请号: | 202010184309.6 | 申请日: | 2020-03-17 |
公开(公告)号: | CN111046599B | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 赵改娜;刘如胜;邢汝博;殷汉权;蔡俊飞 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;H01L27/32;H01L51/52 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 像素 排布 优化 方法 装置 透光 显示 面板 | ||
1.一种像素排布优化方法,其特征在于,包括:
构建初始像素排布结构模型,所述初始像素排布结构模型中各子像素的第一电极具有初始图形参数和初始位置参数;
调整所述初始像素排布结构模型中至少部分所述第一电极的初始图形参数和初始位置参数中的至少一者,得到优化像素排布结构模型,所述优化像素排布结构模型的零级衍射光斑能量与所述优化像素排布结构模型的光透过能量之比大于等于85%;
其中,所述调整所述初始像素排布结构模型中至少部分所述第一电极的初始图形参数和初始位置参数中的至少一者,得到优化像素排布结构模型,所述优化像素排布结构模型的零级衍射光斑能量与所述优化像素排布结构模型的光透过能量之比大于等于85%,包括:
判断在不同的照射波长、视场及物距条件下,所述初始像素排布结构模型的零级衍射光斑能量与所述初始像素排布结构模型的光透过能量之比是否均大于等于85%;
若否,则不断调整所述初始像素排布结构模型中至少部分第一电极的初始图形参数和初始位置参数中的至少一者,直至得到所述优化像素排布结构模型,使得在所述不同的照射波长、视场及物距条件下,所述优化像素排布结构模型的零级衍射光斑能量与所述优化像素排布结构模型的光透过能量之比大于等于85%。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述得到优化像素排布结构模型之后,所述方法还包括:
按照所述优化像素排布结构模型的各第一电极对应的图形参数和位置参数,设置目标透光显示面板中对应的第一电极的图形参数和位置参数。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述构建初始像素排布结构模型,包括:
获取目标透光显示面板的像素排布结构及所述目标透光显示面板的各子像素的第一电极的初始图形参数和初始位置参数;
按照所述目标透光显示面板的像素排布结构及各子像素的第一电极的初始图形参数和初始位置参数,构建所述初始像素排布结构模型。
4.一种像素排布优化装置,其特征在于,包括:
模型构建模块,用于构建初始像素排布结构模型,所述初始像素排布结构模型中各子像素的第一电极共同形成初始第一电极矩阵,各所述第一电极具有初始图形参数和初始位置参数;
参数调整模块,用于调整所述初始像素排布结构模型中至少部分所述第一电极的初始图形参数和初始位置参数中的至少一者,得到优化像素排布结构模型,所述优化像素排布结构模型的零级衍射光斑能量与所述优化像素排布结构模型的光透过能量之比大于等于85%;
其中,所述参数调整模块具体用于:
判断在不同的照射波长、视场及物距条件下,所述初始像素排布结构模型的零级衍射光斑能量与所述初始像素排布结构模型的光透过能量之比是否均大于等于85%;
若否,则不断调整所述初始像素排布结构模型中至少部分第一电极的初始图形参数和初始位置参数中的至少一者,直至得到所述优化像素排布结构模型,使得在所述不同的照射波长、视场及物距条件下,所述优化像素排布结构模型的零级衍射光斑能量与所述优化像素排布结构模型的光透过能量之比大于等于85%。
5.一种透光显示面板,其特征在于,包括:
阵列基板,
发光层,位于所述阵列基板上,所述发光层包括重复单元,所述重复单元中各子像素的第一电极呈图案化排布,且图案化排布的所述第一电极的图形参数和位置参数的组合使得所述透光显示面板的零级衍射光斑能量与所述透光显示面板的光透过能量满足以下关系式:
其中,I0为所述透光显示面板的零级衍射光斑能量,Ix为所述透光显示面板的光透过能量;
所述重复单元包括沿第一方向分布的第一像素组及第二像素组,所述第一像素组包括在第二方向上分布的第一颜色子像素、第二颜色子像素、第三颜色子像素,所述第二像素组包括在所述第二方向上分布的第三颜色子像素、第一颜色子像素、第二颜色子像素,所述第一方向与所述第二方向相交;
其中,所述第一颜色子像素及所述第三颜色子像素的第一电极在所述阵列基板上的正投影为圆形,所述第二颜色子像素的第一电极在所述阵列基板上的正投影为椭圆形。
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