[发明专利]用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机有效
申请号: | 202010184859.8 | 申请日: | 2020-03-17 |
公开(公告)号: | CN111229541B | 公开(公告)日: | 2023-09-22 |
发明(设计)人: | 廖威;方振华;陈静;张丽娟;蒋晓龙;张传超;贾宝申;王静轩;蒋晓东 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | B05C3/18 | 分类号: | B05C3/18;B05C11/10;B05C13/00 |
代理公司: | 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) 50216 | 代理人: | 蔡冬彦 |
地址: | 621900 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 单面 降液式提拉涂膜机 | ||
本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器,储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,结构新颖,设计巧妙,不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势,而且制备流程简单,操作方便,效率高,同时,对于非平板结构的元件,可以根据涂膜对象的形状特征,对储液器的形状进行适应性地调整,使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补,从而可以在储液器匀速升降的情况下,保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的,大幅提高涂膜的均匀性,简化升降控制机构的逻辑控制。
技术领域
本发明涉及化学涂膜装置技术领域,具体涉及一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机。
背景技术
部分元器件(例如光学元件)的表面需要制备溶胶凝胶膜,以提升其性能。在某些应用场景,需要在元器件表面制备性能不同的膜,因此,激发了单面涂膜的需求。
目前,能够用于单面涂膜的方法主要是旋转涂膜、弯月面涂膜、喷淋涂膜等。但是,现有的这些方法都有着各自明显的缺点。旋转涂膜均匀性不好控制,且不适用于非平板的元件;弯月面涂膜存在抖动问题,且同样不适用于表面轮廓有变化的元件;喷淋涂膜均匀性较低,难以满足性能和精度的要求。
经长期生产研究发现,制备溶胶凝胶膜最为简便且性能指标最好的方法为提拉涂膜法。但目前该方法基本只能实现双面涂膜,要实现单面涂膜,则必需对另一个面进行遮挡保护,效率低下。因此,市面上应运而生了一些侧提拉式单面涂膜机,经过长期试验发现,这些侧提拉式单面涂膜机由于成膜机制的限制,在实际应用中存在一些限制,例如不适用异形元件(成膜的厚薄均匀性不佳),便利性不足等。
故急需设计一套全新的提拉涂膜设备,以解决现有技术的不足。
发明内容
为解决以上技术问题,本发明提供了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机。
其技术方案如下:
一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,其要点在于,包括:
主体支架;
中空的涂膜器,其安装在主体支架上,该涂膜器的一侧壁上设置有涂膜开孔和元件固定机构,所述元件固定机构能够将待涂膜的元件固定在涂膜器上,并使该元件盖合所述涂膜开孔;
升降控制机构,其安装在主体支架上;
中空的储液器,其通过安装在升降控制机构上,并能够在升降控制机构的驱动下相对主体支架升降,该储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通;
当储液器处于最高位置时,储液器的底部高于或齐平于涂膜开孔的顶部;当储液器处于最低位置时,储液器的顶部低于或齐平于涂膜开孔的底部。
采用以上结构,待涂膜的元件固定在涂膜器上,待涂膜的一侧完全覆盖涂膜开孔,然后升降控制机构先向上提拉储液器,使涂膜液通过连接管充满涂膜器,再控制储液器向下缓降,涂膜器中的涂膜液缓慢回流到储液器中,该过程中在元件的表面形成一层溶胶凝胶膜,实现单面涂膜;本发明不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势,例如速度均匀可控,制备的膜层均匀性比较好,便于制备不同指标的膜层,而且本发明还具有以下额外的优点:
1、制备流程简单,操作方便,效率高;
2、对于非平板结构的元件,可以根据涂膜对象的形状特征,对储液器的形状进行适应性地调整,使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补,从而可以在储液器匀速升降的情况下,保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的,大幅提高涂膜的均匀性,简化升降控制机构的逻辑控制。
作为优选:所述主体支架包括底座、竖直安装在底座上的立柱以及横向安装在立柱上端的主横梁,所述主横梁远离立柱的一端安装有向下延伸的连接杆,该连接杆的下端可拆卸地安装有所述涂膜器,所述升降控制机构安装在立柱上。采用以上结构,结构简单可靠,易于设备的安装,同时便于拆卸涂膜器。
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