[发明专利]一种抛光盘冷却结构、抛光盘以及抛光机

说明书

本发明提供一种抛光盘冷却结构、抛光盘以及抛光机，所述抛光盘冷却结构包括：转轴，所述转轴的内部中空；插设于所述转轴内部的中空管，所述中空管的内部形成为进水通道，所述中空管的外壁与所述转轴的内壁之间的空腔形成为出水通道；呈上下设置的上冷却盘和下冷却盘，所述上冷却盘的内部空腔与所述出水通道连通，所述下冷却盘的内部空腔与所述进水通道连通；与上冷却盘的底面进水孔的数量相同的若干三通管，用于连通上冷却盘和下冷却盘。根据本发明实施例的抛光盘冷却结构，通过分流的三通管将冷却水在离心力的作用下迅速分流到上、下冷却盘，实现冷却水的快速循环，从而对研磨盘的温度进行有效控制，确保抛光质量。

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种抛光盘冷却结构、抛光盘以及抛光机。

背景技术

在半导体行业，硅片抛光设备从过去的单层单面抛光技术发展到如今的单层双面抛光技术(DSP)，实现了抛光效率的翻倍。硅片在抛光过程中，由于硅片与抛光垫之间的摩擦作用，将会产生大量的热，如果抛光盘温度过高，将会使得抛光盘在热应力的作用下产生微小形变，影响硅片表面的平整度。然而，现有的抛光盘水冷却结构装置循环速率慢、冷却效果不佳，难以适应由于抛光效率加快而带来的产热速度加快的情况。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种抛光盘冷却结构、抛光盘以及抛光机，以解决现有技术中的抛光盘冷却装置循环速度慢、冷却效果不佳的问题。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

本发明第一方面提供了一种抛光盘冷却结构，包括：

转轴，所述转轴的内部中空；

插设于所述转轴内部的中空管，所述中空管的内部形成为进水通道，所述中空管的外壁与所述转轴的内壁之间的空腔形成为出水通道，所述中空管的管壁开设有与所述进水通道连通的第一进水口和第二进水口；

呈上下设置的上冷却盘和下冷却盘，所述上冷却盘和所述下冷却盘均呈空心圆柱状且内部具有空腔，所述转轴穿过所述上冷却盘以及所述下冷却盘并与所述上冷却盘和所述下冷却盘同轴设置，所述上冷却盘的内部空腔与所述出水通道连通，所述下冷却盘的内部空腔通过所述第一进水口与所述进水通道连通，所述上冷却盘的底面边缘周向间隔开设有若干底面进水孔，所述下冷却盘的顶面边缘对应周向间隔开设有若干顶面进水孔；

与所述底面进水孔的数量相同的若干三通管，所述三通管的第一端通过所述第二进水口与所述进水通道连通，所述三通管的第二端与所述底面进水孔连通，所述三通管的第三端与所述顶面进水孔连通。

可选的，所述上冷却盘和所述下冷却盘之间还设置有转台，所述三通管嵌设于所述转台的内部。

可选的，所述三通管的数量为8个。

可选的，所述上冷却盘、所述下冷却盘以及所述三通管均采用黄铜材料制作。

可选的，还包括：

调节阀，所述调节阀设置于所述中空管内，用于控制所述进水通道内的流量和压力。

本发明第二方面实施例还提供了一种抛光盘，包括如上任一项所述的抛光盘冷却结构，还包括：

设置于上冷却盘的顶面的上研磨盘；

设置于下冷却盘的底面的下研磨盘。

可选的，所述上研磨盘粘接于所述上冷却盘的顶面，所述下研磨盘粘接于所述下冷却盘的底面。

本发明第三方面还提供了一种抛光机，包括如上任一项所述的抛光盘。

可选的，还包括：

驱动装置，所述驱动装置与转轴的一端连接，用于驱动所述转轴自转。

本发明上述技术方案的有益效果如下：