[发明专利]石墨烯导电玻璃及制备方法、除霜玻璃和电磁屏蔽玻璃

权利要求书

1.一种石墨烯导电玻璃，其特征在于，其包括：

光学基板；

石墨烯功能层，设置于所述光学基板的表面，其由光学基板依次包括第一无定形碳膜层、石墨烯层和第二无定形碳膜层；所述第一无定形碳膜和第二无定形碳膜为高含氢碳膜；所述第二无定形碳膜的尺寸小于所述石墨烯层的尺寸以使石墨烯层的端部不被第二无定形碳膜层覆盖。

2.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，其还包括电极，所述电极设置于所述第二无定形碳膜的两侧与所述石墨烯层连接。

3.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述光学基板选自可见光波段的玻璃或者红外波段的玻璃。

4.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述光学基板的材质选自无机玻璃或有机玻璃。

5.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，H元素的原子个数百分含量≥20%。

6.一种应用权利要求1至5任一项所述的石墨烯导电玻璃的电磁屏蔽玻璃。

7.一种应用权利要求1至5任一项所述的石墨烯导电玻璃的除霜玻璃。

8.一种石墨烯导电玻璃的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：

1）在清洁的光学基板上镀制第一无定形碳膜层；

2）在所述第一无定形碳膜层上镀制石墨烯膜层；

3）根据设计方案覆盖部分石墨烯膜层作为电极连接区；在未被覆盖的石墨烯膜层上镀制第二无定形碳膜；所述第一无定形碳膜和第二无定形碳膜为高含氢碳膜。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一无定形碳膜和第二无定形碳膜采用磁控溅射法镀制；其中，溅射时以石墨为靶材，以氩气为工作气体，以碳氢气体或者氢气为反应气体。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述石墨烯膜层的镀制采用转移方式、直接生长方式或者石墨烯粉末旋转涂覆方式。