[发明专利]基板处理单元的间隔调节装置和基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理单元的间隔调节装置，其特征在于，包括：

支撑块，支撑基板处理单元；以及

升降单元，用于升降所述支撑块，

所述升降单元包括：

主轴，接受驱动部的驱动力的传递而旋转；

偏心轴，以偏心状态轴联到所述主轴；

随动部件，设置在所述支撑块上，与所述偏心轴的外周表面接触，在所述偏心轴旋转时使所述支撑块升降；以及

引导部件，引导所述支撑块的上下移动。

2.根据权利要求1所述的基板处理单元的间隔调节装置，其特征在于，所述偏心轴包括：

偏心轴部件，以偏心状态轴联到所述主轴；以及

偏心辊部件，可旋转地结合到所述偏心轴部件的外周表面。

3.根据权利要求2所述的基板处理单元的间隔调节装置，其特征在于，所述随动部件包括：

支撑块延长部，结合到所述支撑块；以及

长孔结构的偏心辊支撑部，形成在所述支撑块延长部上以使所述偏心辊部件插入到内部。

4.根据权利要求3所述的基板处理单元的间隔调节装置，其特征在于，所述偏心辊支撑部包括：

第一接触部，与所述偏心辊部件的外周表面接触；以及

第二接触部，面向所述第一接触部，

所述第一接触部和所述第二接触部配置成具有与所述偏心辊部件的直径相对应的间隔，以同时与所述偏心辊部件的外周表面接触。

5.根据权利要求1所述的基板处理单元的间隔调节装置，其特征在于，还包括支撑框架，所述支撑框架配置成通过连接托架与腔室内壁间隔开。

6.根据权利要求5所述的基板处理单元的间隔调节装置，其特征在于，所述主轴包括：

第一主轴，贯通所述支撑框架并可旋转地被支撑，所述第一主轴的一端与所述驱动部连接，其另一端与所述偏心轴连接；以及

第二主轴，贯通所述腔室内壁并可旋转地被支撑，所述第二主轴的一端与所述偏心轴连接。

7.根据权利要求1所述的基板处理单元的间隔调节装置，其特征在于，

所述升降单元还包括动力传递部，连接所述驱动部和所述主轴，将所述驱动部的驱动力传递到所述主轴，

所述动力传递部包括：

第一齿轮，与所述驱动部的输出端轴联；以及

第二齿轮，与所述第一齿轮啮合并与所述主轴轴联。

8.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

一对支撑块，支撑基板处理单元的两端部；

一对升降单元，用于升降所述一对支撑块；以及

腔室，设置有所述升降单元，并具有腔室内壁，所述腔室内壁用于防止所述升降单元从基板被处理的空间受到污染，

各所述升降单元包括：

主轴，接受驱动部的驱动力的传递而旋转；

偏心轴，以偏心状态轴联到所述主轴；

随动部件，设置在所述支撑块上以与所述偏心轴的外周表面接触，在所述偏心轴旋转时使所述支撑块升降；以及

引导部件，引导所述支撑块的上下移动。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板处理单元包括上侧辊刷和下侧辊刷，所述上侧辊刷和所述下侧辊刷配置成彼此间隔开以使基板可以通过。

10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，包括连接轴，所述连接轴将分别设置在所述一对升降单元上的所述主轴彼此连接，并使所述一对升降单元的驱动力同步。

11.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：

密封部件，结合到贯通所述腔室内壁的所述主轴，用于保持所述腔室内壁和所述主轴之间的气密；以及

套环部件，结合到所述主轴，用于使所述密封部件朝向所述腔室内壁加压使其固定。