[发明专利]将粒子射束从粒子源传送至支撑装置的方法

权利要求书

1.一种用于将粒子射束从粒子源传送至支撑装置的方法，所述方法包括：

将来自所述粒子源的粒子射束沿着射束输送组件传送到照射喷嘴的水平输入，所述照射喷嘴被配置成在所述水平输入处围绕旋转轴线而转动；

从所述照射喷嘴内的所述水平输入重定向所述粒子射束，从而将来自所述照射喷嘴的所述粒子射束从第一位置照射传送至所述支撑装置；和

改变所述射束输送组件中的所述粒子射束的路径长度，以便跟随所述照射喷嘴的所述旋转轴线相对于所述支撑装置的垂直位置。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：响应于所述粒子射束的所述路径长度改变，更改所述射束输送组件的一个或多个聚焦磁体的磁场强度。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，更改所述磁场强度包括：基于所述射束输送组件的长度从存储在存储器中的查找表来选择所述磁场强度的控制值。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，更改所述磁场强度是响应于来自监测所述粒子射束的传感器的反馈信号。

5.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述射束输送组件包括：

第一射束管，具有在真空下维持的第一内部体积，

第二射束管，具有在真空下维持的第二内部体积，所述第二射束管与所述第一射束管轴向地间隔开，和

可膨胀部分，将所述第一射束管耦合到所述第二射束管，使得所述粒子射束能够在所述第一射束管与所述第二射束管之间传送；

所述第一射束管的外径小于所述第二射束管的内径，

所述可膨胀部分包括所述第一射束管与所述第二射束管之间的第一滑动密封件，所述第一射束管被配置成滑动到所述第二内部体积中以减少所述粒子射束的所述路径长度；和

所述改变所述粒子射束的路径长度包括：相对于所述第一射束管和所述第二射束管中的一个射束管来轴向地滑动所述第一射束管和所述第二射束管中的另一个射束管。

6.根据权利要求1所述的方法，其中

所述射束输送组件包括：

第一射束管，具有在真空下维持的第一内部体积，

第二射束管，具有在真空下维持的第二内部体积，所述第二射束管与所述第一射束管轴向地间隔开，和

可膨胀部分，将所述第一射束管耦合到所述第二射束管，使得所述粒子射束能够在所述第一射束管与所述第二射束管之间传送，所述可膨胀部分包括真空容器，所述真空容器设置在所述第一射束管与所述第二射束管之间、并且被构造成相对于所述第一射束管和所述第二射束管而转动，所述真空容器的高度在平行于所述第一射束管的和所述第二射束管的轴线的方向上变化，

所述第一射束管通过设置在所述真空容器的轴向第一端处的第一转动密封件而耦合到所述真空容器，并且所述第二射束管通过设置在所述真空容器的轴向相对的第二端处的第二转动密封件而耦合到所述真空容器，所述第一转动密封件和所述第二转动密封件被构造成围绕平行于所述第一射束管的和所述第二射束管的所述轴线的第一转动轴线而转动，所述第一转动轴线与所述第一射束管的和所述第二射束管的所述轴线在垂直于所述第一射束管的和所述第二射束管的所述轴线的方向上间隔开；和

所述改变所述粒子射束的路径长度包括：在使所述第一射束管和所述第二射束管相对于彼此轴向位移的同时，围绕所述第一转动轴线来转动所述真空容器。