[发明专利]处理曝光图形数据的方法、曝光控制单元和直写式曝光机有效
申请号: | 202010188495.0 | 申请日: | 2020-03-17 |
公开(公告)号: | CN111208713B | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 张玉喆 | 申请(专利权)人: | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人: | 贾玉姣 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 曝光 图形 数据 方法 控制 单元 直写式 | ||
1.一种处理曝光图形数据的方法,用于直写式曝光机,其特征在于,所述直写式曝光机包括曝光控制单元,所述曝光控制单元包括用于存储上位机发送的曝光图形数据的第一存储单元,所述方法包括:
响应于一段数据读取完成,将读取数据的地址指针定位到下一段数据所需重复数据的地址处的重定位步骤;
根据所述下一段数据所需重复数据的地址和下一段数据的地址,从所述第一存储单元中读取所需重复数据和所述下一段数据的读取步骤;
重复所述重定位步骤和所述读取步骤,直至获得所述曝光图形数据的每段数据。
2.根据权利要求1所述的处理曝光图形数据的方法,其特征在于,所述曝光图形数据包括填充后的二值化数据、灰度数据、矢量数据中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的处理曝光图形数据的方法,其特征在于,所述曝光控制单元还包括第二存储单元,所述方法还包括:
对所述曝光图形数据进行处理,并将处理后的所述曝光图形数据存储至所述第二存储单元。
4.根据权利要求1所述的处理曝光图形数据的方法,其特征在于,所述方法还包括:
接收到所述上位机发送的所述曝光图形数据;
根据预设存储顺序控制所述第一存储单元的写地址,以将所述曝光图形数据存储至所述第一存储单元。
5.根据权利要求4所述的处理曝光图形数据的方法,其特征在于,所述曝光图形数据为矢量数据时,所述根据预设存储顺序控制所述第一存储单元的写地址,以将所述曝光图形数据存储至所述第一存储单元包括:
将接收到的矢量坐标文件还原为二值图像数据;
将所述二值图像数据按照预设存储顺序存储至所述第一存储单元,其中,所述第一存储单元的写地址按照预设存储顺序递增。
6.一种曝光控制单元,其特征在于,包括:
第一存储单元,用于存储曝光图形数据;
第二存储单元,用于存储处理后的曝光图形数据;
核心控制芯片,与所述第一存储单元和所述第二存储单元分别通信连接,用于执行权利要求1-5任意一项所述的处理曝光图形数据的方法。
7.根据权利要求6所述的曝光控制单元,其特征在于,所述第一存储单元包括DDR2、DDR3、DDR4的内存条中的一种。
8.根据权利要求6所述的曝光控制单元,其特征在于,所述核心控制芯片包括现场可编程门阵列。
9.一种直写式曝光机,其特征在于,包括曝光系统、数字微镜装置和权利要求6-8任一项所述的曝光控制单元,所述曝光控制单元用于根据曝光图形数据对所述曝光系统和所述数字微镜装置分别进行控制。
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