[发明专利]一种复合结构的X射线阳极靶

权利要求书

1.一种复合结构的X射线阳极靶，其特征在于，包括阳极靶本体和覆盖层，所述阳极靶本体为一体成型的柱体，所述阳极靶本体包括顶面、侧面和底面，所述顶面包括多个辐射面和多个连接面，所述多个辐射面间隔设置，所述多个连接面将所述辐射面依次首尾相连，所述覆盖层设置于所述多个连接面上用于吸收高能电子和/或所述覆盖层设置于所述多个辐射面上用于与所述高能电子相互作用以形成X射线。

2.根据权利要求1所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述覆盖层设置于所述多个连接面上时，所述阳极靶本体的材料为可与所述高能电子相互作用以形成X射线的靶材料且所述覆盖层为可吸收所述高能电子的非靶材料；所述覆盖层设置于所述多个辐射面上时，所述阳极靶本体的材料为所述非靶材料且所述覆盖层为所述靶材料。

3.根据权利要求2所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述靶材料包括钨或钼，所述非靶材料包括石墨、金刚石或铍。

4.根据权利要求1所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述覆盖层通过使用磁控溅射和高温烧结融合的方法涂覆在所述多个辐射面和/或连接面上。

5.根据权利要求1所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述辐射面和所述侧面的第一夹角在20度至70度之间。

6.根据权利要求1所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述连接面和所述底面的第二夹角大于90度。

7.根据权利要求6所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述阳极靶本体设置在预设位置，使得所述高能电子的入射方向和所述底面的第三夹角小于或等于所述第二夹角。

8.根据权利要求1所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述X射线为微结构X射线，所述辐射面沿所述侧面的长度为第一长度，所述第一长度加上所述连接面沿所述侧面的长度为第二长度，通过调节所述第一长度和第二长度可以调节所述微结构X射线的占空比和周期。

9.根据权利要求8所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述第一长度的长度范围在5微米-100微米之间。

10.根据权利要求8所述的X射线阳极靶，其特征在于，所述第二长度的长度范围在10微米-200微米之间。