[发明专利]形成涂层的方法

说明书

本发明涉及一种在基材上形成涂层的方法，所述方法包含：(a)提供一种具有基材表面的基材；(b)提供一种包含卤代烷基硅烷和溶剂的制剂；(c)用喷嘴在约20kPa至约2000kPa的雾化压力以及约1ml/min至约50ml/min的流速下将所述制剂雾化以形成雾化制剂；以及(d)在距所述喷嘴约1cm至约50cm的距离处将所述雾化制剂施加至所述基材表面，其中所述涂层具有小于约100°的水接触角。本发明还涉及一种用于形成涂覆的基材的方法。

技术领域

在示例性实施例中，本公开涉及在基材上形成涂层的方法。

背景技术

可以将抗指纹涂层施加到表面上，以在触摸表面之后使指纹的外观最小化。一些抗指纹涂层包含氟化聚醚硅烷(氟硅烷)。这些氟硅烷涂层可以是单层，且通常小于10nm厚。

对于氟硅烷涂层，工艺参数在整个行业中是公知的，且已大规模生产。然而，涂层技术的最近发展已经引入了不可见的指纹涂层，与氟硅烷涂层相比，其可以提供改善的指纹隐藏。一些不可见的指纹涂层更难涂覆。因此，需要优化的不可见指纹涂层和制备此类涂层的方法。

发明内容

为了提供对各种发明实施例的一些方面的基本理解，以下给出了简化的概述。该概述不是本发明的广泛概述。其既不旨在标识本发明的关键或重要元素，也不旨在描绘本发明的范围。以下概述仅以简化形式呈现本发明的一些概念作为以下详细描述的序言。

在示例性实施例中，本公开涉及用于提供不可见指纹涂层的组合物和制剂。本公开还涉及在基材上形成不可见指纹涂层的方法，所述基材为例如但不限于由玻璃材料、陶瓷或金属氧化物表面制成的基材。

当结合所附权利要求书阅读某些示范性实施例的以下详细描述时，其它特征将变得显而易见。以下编号的条款包括预期的和非限制性的实施例：

条款1.一种用于在基材上形成涂层的方法，所述方法包含：

(a)提供一种具有基材表面的基材；

(b)提供一种包含卤代烷基硅烷和溶剂的制剂；

(c)用喷嘴在约20kPa至约2000kPa的雾化压力以及约1ml/min至约50ml/min的流速下将所述制剂雾化以形成雾化制剂；以及

(d)将所述雾化制剂施加到距离所述喷嘴约1cm至约50cm的所述基材表面上，

其中所述涂层具有小于约100°的水接触角。

条款2.根据条款1所述的方法，其中所述基材包含玻璃、抗反射涂覆玻璃(anti-reflective coated glass)、粘合底漆玻璃(adhesion-primed glass)、金属、硬涂覆金属(hard coated metal)、塑料或硬涂覆塑料。

条款3.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层为约0.1nm至约500nm厚。

条款4.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层为约0.1nm至约100nm厚。

条款5.根据前述条款中任一项所述的方法，所述涂层为约0.1nm至约20nm厚。

条款6.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层具有约20°至约50°的二碘甲烷接触角。

条款7.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层具有约25°至约45°的二碘甲烷接触角。

条款8.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述水接触角为约80°至约100°。

条款9.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层在3000次橡皮擦磨损循环之后保持50度以上的水接触角。