[发明专利]一种齿科修复用可光固化牙本质粘结剂及其制备方法

说明书

本发明涉及一种齿科修复用可光固化牙本质粘结剂及其制备方法，所述粘结剂中的填料为改性SiC晶须。本方法工艺简单可靠，产品体系稳定，力学性能优异，具有广泛的应用前景。

技术领域

本发明属于齿科自酸蚀粘结剂及其制备领域，特别涉及一种齿科修复用可光固化牙本质粘结剂及其制备方法。

背景技术

碳化硅晶须常用于金属基、陶瓷基、高分子聚合物基复合材料增强增韧，其在生物陶瓷方面可以作为人造牙齿、骨头、关节等。

粘结剂是与齿科修复复合树脂配套使用的液态物质，自酸蚀粘结剂本身为酸性，减少了修复过程中磷酸酸蚀步骤，依靠其组成中可聚合的酸性功能单体完成酸蚀。大多数的树脂基粘结剂，其主要组分为双酚A-甲基丙烯酸缩水甘油酯(Bis-GMA)、二甲基丙烯酸三乙二醇酯(TEGDMA)、甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)等。一般来说，牙科粘结剂中总是含有填料的。填料的发展，从玻璃粉，硅酸盐到纳米尺寸的热解法二氧化硅以及离子可浸出的玻璃填料，再发展到具有独特的笼形结构的POSS颗粒(多面体低聚倍半硅氧烷)等。一般粘结剂中加入的填料活性较高，极性较大，表面一般具有亲水性，而树脂基体极性较弱，两者之间存在界面问题，因此一般加入的填料均需预活化。传统试验中往往采用磷酸盐和硅烷类化合物进行矿物质的表面处理。硅烷类化合物以γ-甲基丙基酰氧丙基三甲氧基硅烷(γ-MPS或KH-570)最为常用。

目前，自酸蚀粘结剂商品都无法完全封闭修复体的边缘，有可能存在纳米渗漏，纳米渗漏孔径一般在20～100nm，并且随着树脂的固化收缩在粘结界面处出现应力从而导致缝隙出现，最终发展成微渗漏。所以对自酸蚀粘结剂成分进行调控，提高其粘结性能并赋予其抗菌性能对于实际应用有重要意义。

CN109758371A公开了一种齿科修复用可光固化牙本质粘结剂及其制备和应用，但其粘结强度不高，无法缓解术后微渗漏的发生。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种齿科修复用可光固化牙本质粘结剂及其制备方法，克服现有技术无法明显提高自酸蚀粘结剂的粘结强度以及术后容易发生微渗漏的缺陷，本发明方法通过将SiC晶须使用硅烷偶联剂进行改性，并将其均匀地分散在粘结剂基体中，通过其高强度的特性和比较大的长径比来增加粘结强度。

本发明提供一种可光固化牙本质粘结剂组合物，按质量分数，所述粘合剂组分包括：树脂单体40～50％，交联性单体和单官能团共聚单体35～45％，光引发剂0.1～0.3％，助引发剂0.7～0.9％，酸蚀性单体2～10％，阻聚剂0.01～0.2％，溶剂5～15％，填料0～0.7％；所述填料为改性SiC晶须；树脂单体与交联性单体的摩尔比为4:1-1:4。

所述树脂单体为双酚A-甲基丙烯酸缩水甘油酯Bis-GMA；交联性单体为二甲基丙烯酸三乙二醇酯TEGDMA；单官能团共聚单体为甲基丙烯酸羟乙酯HEMA；光引发剂为樟脑醌CQ；助引发剂为对二甲氨基苯甲酸乙酯4-EDMAB；酸蚀性单体为10-(2-甲基丙烯酰氧基)磷酸单癸酯10-MDP；阻聚剂为2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚BHT；溶剂为水。

所述改性SiC晶须的粒度为0.05～2.5μm,20≤长径比≤300。

所述改性SiC晶须具体为：SiC晶须超声分散到有机溶剂中，滴加表面修饰剂，加热搅拌，旋蒸、真空干燥，得到改性SiC晶须。

所述表面修饰剂为γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷中的一种或几种。

所述树脂单体与交联性单体的摩尔比为3:2；填料质量百分含量为0.1-0.5％。

本发明提供一种可光固化牙本质粘结剂组合物的制备方法，包括：

(1)将SiC晶须超声分散到有机溶剂中，滴加表面修饰剂，加热搅拌，旋蒸、真空干燥，得到改性SiC晶须；