[发明专利]一种无机聚电解质-氧化硅复合抛光磨粒的制备方法

权利要求书

1.一种无机聚电解质-氧化硅复合抛光磨粒的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S01：制备纳米氧化硅溶胶：将二氧化硅晶种溶液搅拌加热至100℃，并调节pH至10；在搅拌条件下将活性硅酸溶液滴加到所述二氧化硅晶种溶液中，同时调节pH至10，且保持溶液的蒸发速率和硅酸的滴加速率相等；冷却至室温，得到纳米二氧化硅溶胶；

S02：制备无机聚电解质聚硅酸镁铁铝锌：在搅拌条件下，将硫酸逐滴加入到硅酸钠溶液中，并调节pH调节至4；所述硫酸和硅酸钠溶液在25℃下聚合1小时，在搅拌条件下分别加入硫酸镁、氯化铁六水合物、硝酸铝九水合物和硫酸锌，陈化24小时即可得到无机聚电解质聚硅酸镁铁铝锌；

S03：在25℃及搅拌条件下将所述聚硅酸镁铁铝锌逐滴加入到所述纳米二氧化硅溶胶中，并连续搅拌6小时；经过离心和过滤得到无机聚电解质-氧化硅复合抛光磨粒溶液；其中，所述无机聚电解质与氧化硅的质量之比为0.5～1.5：100。

2.根据权利要求1所述的一种无机聚电解质-氧化硅复合抛光磨粒的制备方法，其特征在于，所述步骤S01中采用质量分数为1%的氢氧化钠溶液调节pH至10。

3.根据权利要求1所述的一种无机聚电解质-氧化硅复合抛光磨粒的制备方法，其特征在于，所述步骤S01中纳米二氧化硅溶胶二氧化硅的质量分数为10%。

4. 根据权利要求1所述的一种无机聚电解质-氧化硅复合抛光磨粒的制备方法，其特征在于，所述步骤S02中在搅拌条件下，将0.4 mol/L的硫酸逐滴加入到0.04 mol/L硅酸钠溶液中。