[发明专利]一种聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物及其制备方法

权利要求书

1.一种聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物的制备方法，其特征在于，包括：

将聚集诱导发光化合物溶解于溶剂中形成混合液A，并在所述混合液A中加入自修复形状记忆聚合物，进行化学接枝或化学嵌段反应形成混合液B，然后加热除去所述混合液B中的溶剂，即得到所述聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物，其中，所述聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物中所述聚集诱导发光化合物的含量为0.1％-10％，所述聚集诱导发光化合物为9,10-双(4-羟基苯乙烯基)蒽化合物，所述自修复形状记忆聚合物为以异氰酸酯封端的聚氨酯预聚物。

2.根据权利要求1所述聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物的制备方法，其特征在于，所述溶剂包括N,N-亚甲基甲酰胺。

3.根据权利要求1所述聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物的制备方法，其特征在于，还包括：

将所述混合液B倒入模具，然后置于真空烘箱中，除去所述混合液B中的溶剂，得到聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物薄膜。

4.如权利要求1所述的聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物的制备方法制得的聚集诱导发光自修复形状记忆聚合物在图像显示、信息存储、光学记忆、涂层预警和发光器件领域中的应用。