[发明专利]用于光束偏振匀滑的系统和方法在审
申请号: | 202010198674.2 | 申请日: | 2020-03-19 |
公开(公告)号: | CN111221135A | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 孙喜博;耿远超;刘兰琴;张颖;黄晚晴;王文义;马文静;周丽丹;陈元;袁晓东;胡东霞 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 张明利 |
地址: | 621999*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光束 偏振 系统 方法 | ||
1.一种用于光束偏振匀滑的系统,其特征在于,包括:
用于实现目标焦斑轮廓及强度分布匀滑的连续相位板、用于实现偏振分离的双轴晶体和聚焦透镜,所述连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体沿光束入射方向依次排列设置。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,
所述双轴晶体为由若干单个晶体组成的级联双轴晶体组;
所述级联双轴晶体组总长度L=∑li,其中,li为单个晶体的长度。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述级联双轴晶体组中各晶体光轴互相平行。
4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述双轴晶体的入射端面与光轴方向垂直。
5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述双轴晶体为KGW晶体。
6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述KGW晶体的第一主轴折射率ng=2.086,第二主轴折射率nm=2.013,第三主轴折射率np=2.045。
7.一种用于光束偏振匀滑的方法,其特征在于,包括:
光束依次经过连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述光束依次经过连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体后,得到的扩散的圆环半径R0=A*L/f,其中,L为双轴晶体的长度,f为聚焦透镜的焦距,A为圆锥折射过程中对应的锥角。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述双轴晶体为由若干单个晶体组成的级联双轴晶体组。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,通过调节所述级联双轴晶体组中的晶体长度和双轴晶体之间的夹角,调节光束的偏振匀滑。
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