[发明专利]一种彩色玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种彩色玻璃，其特征在于，包括玻璃基体、层叠设置于玻璃基体表面的层叠结构和Ti合金层，所述层叠结构包括交替层叠的A层和B层；所述A层为SiC层；所述B层为AlN或GaN层；所述A层与玻璃基体接触，所述B层与Ti合金层接触；所述A层的单层厚度独立地为20～150nm；所述B层的单层厚度独立地为30～200nm。

2.根据权利要求1所述的彩色玻璃，其特征在于，所述A层和B层的总层数至少为2层。

3.根据权利要求2所述的彩色玻璃，其特征在于，所述A层和B层的总层数为2～100层。

4.根据权利要求1～3任一项所述的彩色玻璃，其特征在于，所述钛合金层的成分为钛铝合金或钛铬合金，所述Ti合金层的厚度为30～300nm。

5.权利要求1～4任一项所述彩色玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

对应彩色玻璃的结构，采用磁控溅射法在玻璃基体表面交替镀A层和B层，最后在B层表面镀一层Ti合金层，得到彩色玻璃；

所述A层与玻璃基体接触；所述A层为SiC层；所述B层为AlN或GaN层。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，当A层为SiC层时，采用磁控溅射法镀A层的条件为：磁控溅射的功率为50～150W，溅射靶材为高纯SiC靶，溅射气压为0.2～0.9Pa，氩气流量为40～100sccm。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，当B层为AlN层时，采用磁控溅射法镀B层的条件为：磁控溅射的功率为10～200W，溅射靶材为高纯Al靶，溅射气压为0.1～1Pa，氩气流量为40～100sccm，氮气的流量为8～50sccm，溅射时氩气与氮气的流量比为(2～8):1；

当B层为GaN层时，采用磁控溅射法镀B层的条件为：溅射的功率为10～200W，溅射靶材为高纯Ga靶，溅射气压为0.1～1Pa，氩气流量为40～100sccm，氮气流量为8～50sccm，溅射时氩气与氮气的流量比为(2～8):1。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，采用磁控溅射法镀Ti合金层的条件为：溅射的功率为10～150W，溅射靶材为Ti/Al合金靶或Ti/Cr合金靶，溅射气压为0.1～1Pa，氩气流量为40～100sccm。