[发明专利]一种散热膜的制备方法及显示装置

权利要求书

1.一种散热膜的制备方法，其特征在于，包括：

制备第一溶液；

提供一基板，将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长，以在所述基板表面得到一层有机膜；

将清洗后的所述基板吹干；

在所述有机膜上涂布第二溶液；

将涂布有所述第二溶液的所述有机膜在预设温度下烘烤第二预设时长，得到散热膜。

2.根据权利要求1所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述第一溶液的溶质为乙醇，溶剂为去离子水。

3.根据权利要求1所述的散热膜的制备方法，其特征在于，在将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长的同时，还通过极紫外光照射所述第一溶液中的基板。

4.根据权利要求1所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述第二溶液的溶质为有机硅烷，溶剂为甲苯、二甲苯、戊烷、己烷、辛烷、环己烷、环己酮、乙醚、环氧丙烷、氯苯、二氯苯、二氯甲烷、异丙醇、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、乙腈、吡啶中的一种或多种。

5.根据权利要求4所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述第二溶液中的溶质和溶剂的体积比为1:1～1:4。

6.根据权利要求4所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述有机硅烷的结构式为：

其中，n代表不同长度的碳链，R为含有酯基的链状物、F取代烷烃衍生物、通过烷氧基以及酯基相连接的共轭结构、含有杂环化合物的共轭结构中的一种。

7.根据权利要求6所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述杂环化合物为五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物中的一种。

8.一种显示装置，其特征在于，包括:

一基板；

一散热膜，设置于所述基板上；

一功能层，设置在所述散热膜上；

其中，所述散热膜采用如权利要求1至7任一项所述的散热膜的制备方法制备。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述功能层包括：

一薄膜晶体管层，设置在所述散热膜上；

一发光层，设置在所述薄膜晶体管层上；

多个像素电极，设置在所述发光层内。

10.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述功能层包括：

一n型氮化镓层，设置在所述散热膜上；

多个发光单元，设置在所述n型氮化镓层上；

多个像素电极，设置在所述多个发光单元上；每一所述电极与每一所述发光单元一一对应。