[发明专利]一种针对平板金属的磁电抛光装置

说明书

本发明涉及金属抛光技术领域，特别是一种针对平板金属的磁电抛光装置，包括整体承重底座，所述整体承重底座上设置有电加热板，所述电加热板上放置电解槽，所述电解槽内设置有电流输入装置和电解液流动装置，所述电解槽两侧设置有磁场产生装置。采用上述结构后，本发明的磁电抛光装置一方面能实现板材在电场和磁场复合作用下的磁电抛光，且电场强度、磁场强度及南北极可以根据需要调节；另一方面，可以对板材进行调取，抬升和角度调节。

技术领域

本发明涉及金属抛光技术领域，特别是一种针对平板金属的磁电抛光装置。

背景技术

金属具有良好的导热、导电、和力学性能，是当今社会用途最广泛的材料。为提高金属的强度、耐腐蚀性能和表面光洁度，一般会在正式使用前对其进行抛光处理，以获得平滑光亮的表面。传统最常见的抛光技术是机械抛光，但是机械抛光费时费力，容易引起厚度和平行度的误差。当前较新的方法是电解抛光，把材料放入特制电解液中，通入电流发生氧化还原反应，从而改善金属表面。但是电解抛光存在电极上的浓度极化问题，会导致电极表面的势能分布不均匀，从而金属表面电解沉积不均匀的现象。现在改进的磁电抛光方法，在电解抛光的基础上加上磁场，利用离子在洛伦兹力的驱动下的运动，平滑电极表面上的电势分布，在提高电解速率的基础上，使电解抛光的表面更加均匀。但是现有的装置以电解抛光装置为主，无法实现磁电复合抛光，或者是实验室简陋装置，无法实现对板材的方便、批量操作。

中国发明专利CN 110257895 A公开了一种半导体材料的电解抛光装置，包括底板，所述底板的上端侧壁上固定连接有装置座，所述装置座的上端设有电解池，所述电解池上设有开口朝上的电解槽，所述电解池的一侧侧壁上设有恒流电源，所述电解槽靠近恒流电源一侧的内壁上固定连接有阴极，所述阴极为铂电极，所述电解槽的底部内壁中固定连接有承载垫，所述阴极通过第一导线与恒流电源的负极电连接，所述承载垫的一侧侧壁上通过第二导线与恒流电源的正极电连接，所述承载垫的上端侧壁上等间距设有多个阳极，多个所述阳极均为待抛光半导体材料，所述电解槽内装盛有电解液，所述电解液浸没阴极和阳极，所述装置座内设有加热装置，所述底板上设有升降搅拌机构。

该装置仅适用于电解抛光，无法实现磁场复合下的抛光，且被抛光的半导体只能作为阳极材料，限制了被抛光材料的形状、大小和摆放位置等。电解液靠上方的搅拌装置搅动，电解质添加不方便且难以充分混合。

发明内容

本发明需要解决的技术问题是提供一种采用磁电复合对平板金属进行抛光的装置。

为解决上述技术问题，本发明的一种针对平板金属的磁电抛光装置，包括整体承重底座，所述整体承重底座上设置有电加热板，所述电加热板上放置电解槽，所述电解槽内设置有电流输入装置和电解液流动装置，所述电解槽两侧设置有磁场产生装置；

电解槽中加入电解液，所述电解液中放置被电解板材；

电流输入装置用来控制输入电解槽中电流的大小和类型；

电解液流动装置用来控制电解槽中电解液流动；

磁场产生装置用来调节电解槽内的磁场强度。

优选的，所述电流输入装置采用电极装置，所述电极装置包括分别设置在电解槽内上下两侧的阴极电极板和阳极电极板。

优选的，所述电解液流动装置包括电解池进出口和控制电解液流动的泵，所述电解池进出口包括分别设置在电解槽外上下两侧且与电解槽相通的电解液出口和电解液入口，所述泵设置在电解槽外围。

优选的，还包括温控装置，所述温控装置包括用来检测电解液加热温度的热电偶，所述热电偶与控制器输入端相连接，所述控制器输出端与电加热板相连接。

优选的，所述磁场产生装置为电磁铁，所述电磁铁包括分别设置在电解槽外部左右两侧的第一电磁铁和第二电磁铁，所述第一电磁铁和第二电磁铁分别与电源相连接。