[发明专利]一种二维阵列加载微波设备有效

专利信息
申请号: 202010208408.3 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN111432513B 公开(公告)日: 2023-02-14
发明(设计)人: 王清源 申请(专利权)人: 成都赛纳为特科技有限公司
主分类号: H05B6/64 分类号: H05B6/64
代理公司: 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司 51276 代理人: 赵雷;游诚华
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 二维 阵列 加载 微波 设备
【权利要求书】:

1.一种二维阵列加载微波设备,包括位于 Y 方向的盖板(1)、位于-Y方向的底板(2),在所述盖板(1)和底板(2)之间设置有通道(5);在所述盖板(1)上或者在所述底板(2)上设置有至少一根馈入传输线(3);所述馈入传输线(3) 向所述盖板(1)和底板(2)之间的通道(5)输送微波能量;X、Y 和Z 方向构成直角坐标系;其特征在于,

还包括加载体(4),所述加载体(4)为至少 5 列,至少 5 排,围绕至少一根所述馈入传输线(3)与所述盖板(1)或者所述底板(2)的连接处的中心点,在-X 方向,X 方向,-Z 方向和Z方向上都有至少 2 个所述加载体(4),沿 X 方向和沿 Z 方向设置的至少 3列, 至少3排加载体(4),加载体(4)用于产生带阻效应;

所述盖板(1)、底板(2)、加载体(4)的材料都为金属,所述加载体(4)或者固定设置于所述盖板(1)的下表面,或者固定设置于所述底板(2)的上表面。

2.根据权利要求1所述的一种二维阵列加载微波设备,其特征在于,所述通道(5)为矩形体, 所述通道(5)有分别沿X方向、Y 方向和 Z 方向的三条边。

3.根据权利要求1所述的一种二维阵列加载微波设备,其特征在于,所述加载体(4)为轴线平行 Y 方向的横截面为圆形、矩形或正方形的柱状体。

4.根据权利要求1所述的一种二维阵列加载微波设备,其特征在于,在X 方向和在 Z方向相邻的所述加载体(4)的轴线之间的间距为工作波长的0.15~0.35倍。

5.根据权利要求1所述的一种二维阵列加载微波设备,其特征在于,所述加载体(4)在Y 方向的高度为工作波长的 0.15~0.35 倍。

6.根据权利要求1所述的一种二维阵列加载微波设备,其特征在于,在所述通道(5)中设置有被加热物(6)。

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