[发明专利]一种无羟胺水基清洗液、其制备方法及应用

说明书

本发明公开了一种无羟胺水基清洗液、其制备方法及应用。本发明提供了一种无羟胺水基清洗液，其由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：0.1％‑30％的乙二胺、0.01％‑25％的醇胺、0.1％‑20％的季铵碱、0.1％‑20％的螯合剂、0.01％‑5％的聚乙烯吡咯烷酮类化合物、0.01％‑10％的非离子型表面活性剂、0.1％‑15％的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比。本发明的无羟胺水基清洗液对多种金属及电介质缓蚀性强，兼容性佳，清洗效果佳。

技术领域

本发明涉及一种无羟胺水基清洗液、其制备方法及应用。

背景技术

在芯片制造技术中，铝互联等离子刻蚀后残余物清洗液以羟胺清洗液为主。随着技术节点的不断前进，越来越多的材料被引入，如钛、钨、氮化钛等金属材料，以及低k介质材料等，进而对传统的羟胺清洗液与多种材料的兼容性形成挑战。开发兼容性强的清洗液成为本领域亟待解决的一个问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有的清洗液对多种金属和介电材料的兼容性差的缺陷，而提供了一种无羟胺水基清洗液、其制备方法及应用。本发明的无羟胺水基清洗液对多种金属及电介质缓蚀性强，兼容性佳，清洗效果佳。

本发明通过以下技术方案来解决上述技术问题。

本发明提供了一种无羟胺水基清洗液，其由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：0.1％-30％的乙二胺、0.01％-25％的醇胺、0.1％-20％的季铵碱、0.1％-20％的螯合剂、0.01％-5％的聚乙烯吡咯烷酮类化合物、0.01％-10％的非离子型表面活性剂、0.1％-15％的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比；

其中，所述的聚乙烯吡咯烷酮类化合物为聚乙烯吡咯烷酮PVP-K12；

所述的非离子型表面活性剂为EO-PO聚合物L42、EO-PO聚合物L43和EO-PO聚合物L44中的一种或多种。

所述的无羟胺水基清洗液中，所述的乙二胺的质量分数可为1％-10％，优选4％-6％(例如4％、5％、5.5％、6％)，所述的质量分数为所述的乙二胺的质量占原料的总质量的百分比。

所述的无羟胺水基清洗液中，所述的醇胺可为本领域常规使用的醇胺，优选单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2-氨基乙醇、1-氨基-2-丙醇、1-氨基-3-丙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)乙胺、三甲醇胺、二甘醇胺、二内醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、二乙醇单异丙醇胺和乙二胺丁醇中的一种或多种，更优选单乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺和异丙醇胺中的一种或多种。

所述的无羟胺水基清洗液中，所述的醇胺的质量分数可为1％-10％，优选5％-7％(例如5％、6％、7％)，所述的质量分数为所述的醇胺的质量占原料的总质量的百分比。

所述的无羟胺水基清洗液中，所述的季铵碱可为本领域常规使用的季铵碱，优选氢氧化四甲基铵(TMAH)、三甲基-2-羟基乙基氢氧化铵(胆碱)、氢氧化三甲基-3-羟基丙基铵、氢氧化三甲基-3-羟基丁基铵、氢氧化三甲基-4-羟基丁基铵、氢氧化三乙基-2-羟基乙基铵、氢氧化三丙基-2-羟基乙基铵、氢氧化三丁基-2-羟基乙基铵、氢氧化二甲基乙基-2-羟基乙基铵、氢氧化二甲基二-(2-羟基乙基)铵、氢氧化单甲基三乙醇铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化四乙醇铵、氢氧化单甲基三乙基铵、氢氧化单甲基三丙基铵、氢氧化单甲基三丁基铵、氢氧化单乙基三甲基铵、氢氧化单乙基三丁基铵、氢氧化二甲基二乙基铵、氢氧化二甲基二丁基铵和氢氧化苄基三甲基铵中的一种或多种，更优选氢氧化四甲基铵和/或胆碱。