[发明专利]光罩及曝光方法在审

专利信息
申请号: 202010209962.3 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN111258173A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 应见见 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 曝光 方法
【权利要求书】:

1.一种光罩,其特征在于,所述光罩包括:

显示区部:用于形成显示区图形;以及

电路区部:设置于所述显示区部的外侧,其中,所述电路区部包括至少两个电路分支区部,任意一个所述的电路分支区部用于形成独立的栅极驱动电路。

2.如权利要求1所述的光罩,其特征在于,任意一所述的电路分支区部上还连接设置有一个拼接区部,设置于对应的所述电路分支区部与所述显示区部之间,用于形成连接显示区与栅极驱动电路的拼接电路。

3.如权利要求2所述的光罩,其特征在于,当所述电路分支区部与所述显示区部相邻时,所述电路分支区部对应的拼接区部与所述显示区部直接连接。

4.如权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述拼接区部与所述至少两个电路分支区部中的除了对应电路分支区部以外的一者之间设有间隙。

5.如权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述光罩还包括副拼接区部,设置于所述显示区部及所述拼接区部之间,所述拼接区部形成的图形与所述副拼接区部形成的图形相叠加,形成完整的拼接电路,其中所述副拼接区部与所述显示区部直接连接,且所述副拼接区部与所述拼接区部之间设有间隙。

6.如权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述栅极驱动电路为单边驱动架构,所述至少两个电路分支区部中的任意两者彼此不相同,分别独立地设置于所述显示区部中同一边的外侧。

7.如权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述栅极驱动电路为双边驱动架构,且两边的驱动电路不相同,所述电路区部包括至少三个电路分支区部,所述至少三个电路分支中的任意两者彼此不相同,且分别独立地设置于所述显示区部中任意两条对边的外侧,其中设置于所述显示区部中任意两条对边的外侧的电路分支区部的数量相同或相异。

8.如权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述栅极驱动电路为双边驱动架构,且两边的驱动电路相同,所述电路区部包括至少四个电路分支区部,所述电路分支区部的个数为偶数且两两相同,任意两个相同的电路分支区部分别设置于所述显示区部中任意两条对边的外侧。

9.一种曝光的方法,其特征在于,使用权利要求1-8任意一项所述的光罩进行曝光,包括如下步骤:

S1:对所述显示区部进行曝光;

S2:对需要的所述电路分支区部及对应的拼接区部进行曝光。

10.如权利要求9所述的曝光方法,其特征在于,当需曝光的电路分支区部对应的拼接区部与所述显示区部相连接时,所述电路分支区部及对应的拼接区部与所述显示区部共同进行一次曝光,当所述光罩还包括副拼接区部时,在所述S1步骤中,进行所述显示区部的曝光的同时,一并进行所述副拼接区部的曝光。

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