[发明专利]一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供一基底，所述基底包括多个岛区、桥区和空区；

形成位于所述岛区的发光器件、位于所述桥区的连接线和位于所述空区的临时流平阻挡结构，所述临时流平阻挡结构用于临时填充所述空区内的部分空间，以为后续喷墨打印时的有机液提供临时流通通道，所述临时流平阻挡结构由平坦化层、像素定义层、隔垫物层中的至少之一形成；

在所述岛区和所述空区形成封装层，所述封装层包括至少一层采用喷墨打印工艺形成的有机封装层；

去除所述空区的临时流平阻挡结构和封装层。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，形成位于所述岛区的发光器件、位于所述桥区的连接线和位于所述空区的临时流平阻挡结构包括：

形成位于所述岛区的驱动功能层和位于所述桥区的连接线；

形成平坦化层，所述平坦化层位于所述岛区和所述空区；

形成所述发光器件的阳极，所述阳极位于所述岛区；

形成像素定义层，所述像素定义层位于所述岛区和所述空区；

形成所述发光器件的有机发光层和阴极，所述有机发光层和阴极位于所述岛区；

形成隔垫物层，所述隔垫物层位于所述岛区和所述空区。

3.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述岛区和所述空区形成封装层包括：

在所述岛区和空区形成第一无机封装层；

在所述第一无机封装层上采用喷墨打印工艺形成有机封装层；

在所述有机封装层上形成第二无机封装层。

4.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述去除所述空区的临时流平阻挡结构和封装层包括：

采用灰化工艺，去除所述空区的临时流平阻挡结构和封装层。

5.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述基底包括硬质基底和形成在所述硬质基底上的柔性基底，去除所述空区的临时流平阻挡结构和封装层包括：

去除所述空区的临时流平阻挡结构和封装层的同时，去除所述空区的柔性基底。

6.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，每一所述空区包括多个所述临时流平阻挡结构，多个所述临时流平阻挡结构沿所述空区的长度方向间隔设置。

7.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述临时流平阻挡结构占所述空区的面积比例为30～60％。

8.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板根据权利要求1-7中任一项所述的显示基板的制备方法制备得到。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求8所述的显示基板。