[发明专利]一种抛光垫及其制备方法

权利要求书

1.一种抛光垫，其特征在于，所述抛光垫的磨料层由以下质量百分比的原料固结而成：聚集体磨料10-22%、偶联剂1-5%、树脂结合剂45-65%、碳酸钙10-20%、氧化铈10-20%、气相二氧化硅1-5%、碳酸氢钠1-5%、细丝纤维1-3%；所述聚集体磨料的制备方法包括如下步骤：

1）将纳米磨粒、表面活性剂、硅溶胶混合均匀，得混合液；

2）将步骤1）所得的混合液与缚水剂搅拌，分离出聚集体磨料前驱体；

3）将步骤2）所得的聚集体磨料前驱体在450-750℃烧结1-3h；

其中，步骤1）中所述硅溶胶的固含量为35-55%。

2.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，聚集体磨料由纳米磨粒聚集而成，粒径为1-3μm。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光垫包括弹性基底以及设置在所述弹性基底上的过渡层，所述磨料层复合在无纺布基材上形成工作层，所述工作层复合在所述过渡层的表面上。

4.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，所述工作层的厚度为1.0-2.0mm，所述无纺布基材的厚度为200-300μm，所述过渡层的厚度为0.5-1.0mm。

5.根据权利要求4所述的抛光垫，其特征在于，过渡层由以下质量百分比的原料固结而成：树脂结合剂55-70%、碳酸钙20-30%、纳米氧化铝10-20%。

6.根据权利要求3所述的抛光垫，其特征在于，所述过渡层通过粘接层粘接在所述弹性基底上。

7.根据权利要求6所述的抛光垫，其特征在于，所述粘接层的厚度为100-150μm，所述弹性基底的厚度为1000-1200μm。

8.如权利要求1-7中任一项所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

A. 将磨料层的原料混匀，得混合浆料；

B. 将步骤A所得混合浆料倒入模具，再将无纺布压盖在混合浆料表面，加热固化；

C. 将过渡层的原料混匀，涂覆在步骤B所述的无纺布上，加热固化，得半成品；

D. 将步骤C中的半成品与橡胶板贴合，即得。

9.根据权利要求8所述的抛光垫的制备方法，其特征在于，步骤A所述混匀采用真空离心搅拌。