[发明专利]加氢脱氧催化剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种加氢脱氧催化剂的制备方法，其特征在于，包括步骤如下：

向M前驱体和硅前驱体的混合物中加入碱反应生成沉淀，所述沉淀经焙烧后得M-(SiO₂)_X复合氧化物；及

以所述M-(SiO₂)_X复合氧化物作为载体，配制活性金属盐溶液作为浸渍液，采用浸渍法使活性金属负载于所述载体上，得所述加氢脱氧催化剂；

其中M选自铌氧化物、钴氧化物和铈氧化物中的一种或多种，x为1～100；所述活性金属选自第ⅡA族、第ⅠB族、第ⅡB族、第ⅤB族、第Ⅷ族以及镧系元素中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾和碳酸铵中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述M前驱体选自M的柠檬酸盐、酒石酸盐、苹果酸盐、硝酸盐、盐酸盐和硫酸盐中的一种或多种，所述硅前驱体选自水玻璃、硅溶胶和正硅酸乙酯中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述加入碱反应的过程包括：

所述碱加入含所述M前驱体和硅前驱体的溶液中搅拌生成沉淀；

所述沉淀进行静置老化；及

将所述静置老化后的物料进行焙烧得所述M-(SiO₂)_X复合氧化物。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述浸渍法包括将所述载体置于所述浸渍液中静置6h～12h，然后依次经干燥、焙烧和还原制得所述加氢脱氧催化剂，其中所述干燥温度为110℃～120℃，焙烧温度为350℃～800℃，所述还原的过程以氢气为还原剂，还原温度为50℃～500℃。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述活性金属盐选自硝酸盐、硫酸盐、氯化盐和乙酸盐中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述M为无定形结构的Nb₂O₅，x为1～40；所述活性金属选自钯、镍和铂中的一种或多种；所述活性金属的负载量为0.05wt％～30wt％。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述载体为由M和SiO₂氧化物颗粒团簇聚集而成的多孔结构，所述SiO₂为无定形结构，所述团簇的尺寸为200nm～2000nm，所述载体的比表面积为200m²/g～700m²/g，孔容为0.1cc/g～0.9cc/g。

9.一种加氢脱氧催化剂，采用权利要求1～8中任一项所述的方法制备得到。

10.根据权利要求9所述的加氢脱氧催化剂在加氢脱氧反应中的应用。