[发明专利]一种耐磨聚酰亚胺薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在惰性气体氛围中，向芳香型二胺溶液中加入混合填料混匀，然后加入芳香型二酐，进行反应得到中间物料；取中间物料脱泡并涂布于基板表面，亚胺化，脱膜得到耐磨聚酰亚胺薄膜；其中，混合填料为二硫化钼、纳米聚四氟乙烯、改性碳纳米管、硅烷偶联剂。

2.根据权利要求1所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，二硫化钼、纳米聚四氟乙烯、改性碳纳米管、硅烷偶联剂的重量比为2-4:0.4-0.6:1-2:0.05-0.07。

3.根据权利要求1或2所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，在耐磨聚酰亚胺薄膜中，混合填料的含量为10-15wt％。

4.根据权利要求1-3任一项所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，改性碳纳米管为γ-氨丙基三乙氧基硅烷改性碳纳米管；优选地，二硫化钼的粒径为1000-2000目。

5.根据权利要求1-4任一项所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，芳香型二胺为4,4'-二氨基二苯醚、对苯二胺和4,4’-二氨基-2,2’-双三氟甲基苯；优选地，4,4'-二氨基二苯醚、对苯二胺和4,4’-二氨基-2,2’-双三氟甲基苯的摩尔比为5-6:2.5-3.5:0.5-2.5。

6.根据权利要求1-5任一项所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，芳香型二酐为3,3',4,4'-联苯四甲酸二酐和六氟二酐；优选地，3,3',4,4'-联苯四甲酸二酐和六氟二酐的摩尔比为8-9:1-2。

7.根据权利要求1-6任一项所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，反应温度为50-70℃，反应时间为5-6h。

8.根据权利要求1-7任一项所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，亚胺化的程序为：分别于130-150℃、190-210℃、250-300℃保温30-40min，再于380-400℃保温1-2min。

9.根据权利要求1-8任一项所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，中间物料的固含量为20-30wt％；优选地，芳香型二胺溶液的溶剂为N,N-二甲基乙酰胺；优选地，芳香型二胺和芳香型二酐的摩尔比为1:0.95-1.05。

10.一种耐磨聚酰亚胺薄膜，其特征在于，按照权利要求1-9任一项所述耐磨聚酰亚胺薄膜的制备方法制得。