[发明专利]一种纳米孔光谱传感系统及光谱仪在审
申请号: | 202010222050.X | 申请日: | 2020-03-26 |
公开(公告)号: | CN113447122A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 叶鑫;唐烽;李波;郑万国;吴卫东;杨李茗;李青芝;邵婷;邓青华;黄进;黎维华;吴之清;石兆华;周晓燕;孙来喜 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28 |
代理公司: | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人: | 冯静 |
地址: | 621999 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 光谱 传感 系统 光谱仪 | ||
1.一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,包括:基底、薄膜、面阵探测器和纳米孔单元;所述面阵探测器的上表面设置所述基底,所述基底的上表面设置所述薄膜,所述薄膜上开设有多个所述纳米孔单元;每个所述纳米孔单元均包括多个所述纳米孔,所述纳米孔单元内的纳米孔的孔径相等,一个所述纳米孔单元内的纳米孔对应一个设定谐振波长值。
2.根据权利要求1所述的一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,每个所述纳米孔单元内的多个所述纳米孔均阵列式排布;每个所述纳米孔单元内的两个相邻的所述纳米孔的边缘距离小于对应的设定谐振波长值。
3.根据权利要求1所述的一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,每个所述纳米孔单元的尺寸均大于第一设定尺寸值;所述纳米孔单元的尺寸为每个所述纳米孔单元内的边缘纳米孔围成的区域的面积;所述第一设定尺寸值为所有所述纳米孔单元中孔径最大的所述纳米孔对应的设定谐振波长值的10倍。
4.根据权利要求1所述的一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,所述纳米孔单元之间的边界距离大于所有所述纳米孔单元中孔径最大的所述纳米孔对应的设定谐振波长值的10倍。
5.根据权利要求1所述的一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,所述基底和所述薄膜均为全电介质材料。
6.根据权利要求1所述的一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,还包括:连接部,所述面阵探测器与所述基底通过所述连接部连接。
7.根据权利要求6所述的一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,所述连接部为光学介质。
8.根据权利要求1所述的一种纳米孔光谱传感系统,其特征在于,所述面阵探测器为电荷耦合器件图像传感器或者互补金属氧化物半导体传感器。
9.一种光谱仪,其特征在于,包括:光束准直系统、数据存储处理系统、显示系统和权利要求1-8中任意一项所述的纳米孔光谱传感系统;所述纳米孔光谱传感系统中的薄膜的上表面设置所述光束准直系统;所述纳米孔光谱传感系统中的面阵探测器与所述数据存储处理系统连接;所述数据存储处理系统与所述显示系统连接。
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