[发明专利]一种光学革在审

专利信息
申请号: 202010222298.6 申请日: 2020-03-26
公开(公告)号: CN112848530A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 洪莘;刘立冬;高育龙 申请(专利权)人: 昇印光电(昆山)股份有限公司
主分类号: B32B3/30 分类号: B32B3/30;B32B33/00;B32B7/12;B32B27/36;B32B27/28;B32B27/30;B32B27/40;B32B27/08;B32B27/12;B32B27/06;G02B1/10;G02B3/00;G09F3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学
【权利要求书】:

1.一种光学革,其特征在于,包括:

压纹革层,所述压纹革层包括可视的视觉侧和相对设置的内侧,所述压纹革层在所述视觉侧具有皮质视感和触感的复数纹理结构;

光学层,所述光学层设置于所述压纹革层的内侧或视觉侧,所述光学层包括图文层和微纳结构层,所述微纳结构层包括周期或随机排布的复数微纳结构,所述图文层包括复数微图文,所述微纳结构和微图文相对应设置,形成上浮和/或下沉的图文影像。

2.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述光学层还包括设于所述设于所述微纳结构层上的镀膜层,所述光学层还包括打底或辅助显色的着色层,所述镀膜层设于所述微纳结构层和着色层之间。

3.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述微纳结构为菲涅尔透镜、微透镜或柱面镜。

4.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述光学革还包括辅助革层,所述辅助革层设置于所述光学层和压纹革层之间,或者所述光学层设置于所述压纹革层和辅助革层之间。

5.根据权利要求4所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层的材质包括PU、PVC或TPU材料;所述辅助革层的材质包括PU、PVC或TPU材料。

6.根据权利要求4所述的光学革,其特征在于,所述光学革还包括布层,所述光学层设置于所述辅助革层和所述布层之间,或者所述辅助革层设置于所述光学层和布层之间。

7.根据权利要求6所述的光学革,其特征在于,所述辅助革层和所述布层相复合,并通过粘结层与所述光学层相粘结。

8.根据权利要求4所述的光学革,其特征在于,所述光学革还包括支架层或承载层,所述支架层或承载层用于支撑所述光学革的其他层次。

9.根据权利要求4所述的光学革,其特征在于,所述光学革还包括发泡层和耐磨层,所述发泡层设置于所述压纹革层的视觉侧,所述耐磨层覆设于所述发泡层;或者所述光学革还包括设置于所述压纹革层的视觉侧的耐磨层。

10.根据权利要求4所述的光学革,其特征在于,所述光学层和辅助革层或压纹革层之间设置有粘胶层。

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