[发明专利]一种对准系统及光刻机有效

专利信息
申请号: 202010224259.X 申请日: 2020-03-26
公开(公告)号: CN113448189B 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 高安 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 对准 系统 光刻
【权利要求书】:

1.一种对准系统,其特征在于,包括:

对准光束产生单元,用于产生对准光束;

物镜;所述对准光束经过所述物镜后照射到对准标记上并产生一次衍射光;所述一次衍射光包括正级一次衍射光和负级一次衍射光;

第一偏振分光棱镜,位于物镜远离所述对准标记一侧,且位于第一路一次衍射光的出射光路上;所述第一偏振分光棱镜包括入光面和多个出光面;

衍射光回射单元,包括第一衍射光回射单元,所述第一衍射光回射单元位于所述第一偏振分光棱镜的一个出光面,用于将入射到所述第一衍射光回射单元的所述第一路一次衍射光反射至所述第一偏振分光棱镜;

分光元件,与所述第一偏振分光棱镜沿垂直于所述物镜光轴的方向排列,且与所述第一偏振分光棱镜位于所述物镜的光轴的相对两侧,用于将所述第一偏振分光棱镜出射的第一路一次衍射光与第二路一次衍射光合束;其中,所述第一路一次衍射光为所述正级一次衍射光,所述第二路一次衍射光为所述负级一次衍射光;或者,所述第一路一次衍射光为所述负级一次衍射光,所述第二路一次衍射光为所述正级一次衍射光;

干涉信息探测单元,位于所述第一偏振分光棱镜以及所述分光元件的出射光路上,用于获取所述正级一次衍射光和所述负级一次衍射光的干涉光强。

2.根据权利要求1所述的对准系统,其特征在于,所述多个出光面包括第一出光面、第二出光面和第三出光面;所述入光面与所述第一出光面相对,所述第二出光面和所述第三出光面相对;

所述第一衍射光回射单元位于所述第一出光面。

3.根据权利要求2所述的对准系统,其特征在于,所述对准光束产生单元产生的对准光束为P偏振的线偏振光。

4.根据权利要求2所述的对准系统,其特征在于,所述干涉信息探测单元位于所述分光元件远离所述物镜一侧。

5.根据权利要求4所述的对准系统,其特征在于,所述干涉信息探测单元包括第一二分之一波片、第二偏振分光棱镜、第一探测器和第二探测器,所述第一二分之一波片位于所述分光元件与所述第二偏振分光棱镜之间;所述第一探测器和所述第二探测器位于所述第二偏振分光棱镜的出光面。

6.根据权利要求1所述的对准系统,其特征在于,所述多个出光面包括第一出光面、第二出光面和第三出光面;所述入光面与所述第一出光面相对,所述第二出光面和所述第三出光面相对;

所述第一衍射光回射单元位于所述第一偏振分光棱镜的所述第一出光面;

所述衍射光回射单元还包括第二衍射光回射单元,所述第二衍射光回射单元位于所述分光元件远离所述第一偏振分光棱镜一侧,用于将入射到所述第二衍射光回射单元的所述第二路一次衍射光反射至所述分光元件。

7.根据权利要求6所述的对准系统,其特征在于,所述干涉信息探测单元包括第一干涉信息探测单元和第二干涉信息探测单元,所述第一干涉信息探测单元位于所述分光元件远离所述物镜一侧,所述第二干涉信息探测单元位于所述第一偏振分光棱镜远离所述分光元件一侧。

8.根据权利要求7所述的对准系统,其特征在于,所述第一干涉信息探测单元包括第一二分之一波片、第二偏振分光棱镜、第一探测器和第二探测器,所述第一二分之一波片位于所述分光元件与所述第二偏振分光棱镜之间;所述第一探测器和所述第二探测器位于所述第二偏振分光棱镜的出光面;

所述第二干涉信息探测单元包括第二二分之一波片、第三偏振分光棱镜、第三探测器和第四探测器,所述第二二分之一波片位于所述第一偏振分光棱镜与所述第三偏振分光棱镜之间;所述第三探测器和所述第四探测器位于所述第三偏振分光棱镜的出光面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010224259.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top