[发明专利]显示装置、显示面板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010227105.6 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN111273475B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 陈仲天 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/137;G02F1/1337;G02F1/1343
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 杨艇要
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 显示 面板 及其 制作方法
【说明书】:

发明公开了显示面板,包括相对设置第一基板、第二基板和液晶层;第一基板靠近第二基板的一侧具有第一突起,第二基板靠近第一基板的一侧具有第二突起;液晶层包括靠近第一突起的第一液晶层、靠近第二突起的第二液晶层、和位于第一液晶层和第二液晶层之间的第三液晶层;第一液晶层、第二液晶层和第三液晶层中的液晶分子均为负型液晶分子,第一液晶层、第二液晶层中的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值均大于第三液晶层的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值,使得在相同的电场、第一/二突起作用下,第一液晶层、第二液晶层、第三液晶层中的液晶分子的偏转值趋于一致,降低第一/二突起对背光源的光线的穿透率的影响,提高画面的显示质量。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及显示装置、显示面板及其制作方法。

背景技术

LCD(Liquid Crystal Displays,液晶显示)面板通过液晶分子的偏转调制背光源穿过液晶层的光量实现画面显示,其中在垂直配向时,液晶层中的RM(Reactive Monomer,活性单体)会在配向膜表面形成聚合物突起,以锚定液晶分子以形成预倾角。

然而,当液晶分子在电场作用下发生偏转时,配向膜表面的聚合物突起会干扰其附近的液晶分子进行相应的偏转,导致附近的液晶分子无法按照规定的方向偏转,对背光源的光线的穿透率造成影响,最终降低画面的显示质量。

因此,有必要提供可以降低配向膜表面的聚合物突起对液晶分子在电场作用下偏转的干扰的显示装置、显示面板及其制作方法。

发明内容

本发明实施例提供显示面板,包括第一基板、第二基板以及液晶层;

所述第一基板和所述第二基板相对设置,所述第一基板靠近所述第二基板的一侧具有第一突起,所述第二基板靠近所述第一基板的一侧具有第二突起;

所述液晶层包括第一液晶层、第二液晶层、以及第三液晶层,所述第一液晶层设于所述第一突起靠近所述第二突起的一侧,所述第二液晶层设于所述第二突起靠近所述第一突起的一侧,所述第三液晶层设于所述第一液晶层和所述第二液晶层之间;

所述第一液晶层中的液晶分子、所述第二液晶层中的液晶分子、以及所述第三液晶层中的液晶分子均为负型液晶分子,所述第一液晶层中的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值和所述第二液晶层的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值均大于所述第三液晶层的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值,使得在相同的电场、所述第一突起、以及所述第二突起作用下,所述第一液晶层中的液晶分子的偏转值和所述第二液晶层中的液晶分子的偏转值、均与所述第三液晶层中的液晶分子的偏转值的差值处于一预设范围内。

在一实施例中,所述第一液晶层中的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值不小于4,和/或所述第二液晶层中的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值不小于4。

在一实施例中,所述第三液晶层中的液晶分子的介电各向异性参数的绝对值不小于3,且小于4。

在一实施例中,所述第一基板包括第一配向层,所述第二基板包括第二配向层,所述第一配向层的组成材料、和/或所述第二配向层的组成材料包括其中a不小于50,且不大于300。

在一实施例中,所述第一基板还包括第一电极层,所述第二基板还包括第二电极层,所述第一电极层设于所述第一配向层远离所述液晶层的一侧,所述第二电极层设于所述第二配向层远离所述液晶层的一侧,所述第一电极层和所述第二电极层之间具有电场,所述电场使得所述液晶层中的液晶分子偏转。

在一实施例中,所述显示装置包括如上任一所述显示面板。

本发明实施例还提供显示面板的制作方法,用于制作如上任一所述显示面板,包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010227105.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top