[发明专利]覆膜有效
| 申请号： | 202010227675.5 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN111748274B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 池田拓也;松原圭佑;谷村功太郎;城下知辉 | 申请（专利权）人： | 郡是株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;狄茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 覆膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种覆膜，其特征在于，具有：
透明的基材膜；
叠层于所述透明基材膜的至少一个表面的缓冲层；和
叠层于所述缓冲层上且由电离辐射固化性树脂形成的硬涂层，
所述缓冲层构成为吸收因弯曲而作用于所述硬涂层的应力，
所述缓冲层是将含有作为主要成分的丙烯酸酯共聚物和异氰酸酯系交联剂的粘合性组合物进行交联而得到的层，1Hz、25℃时的剪切储存弹性模量为1.0×105Pa以下，
所述硬涂层是使含有结构单元中具有1个以上的烯属不饱和键的化合物或它们的混合物的硬涂层用树脂组合物通过电离放射线固化而得到的层，1Hz、25℃时的拉伸储存弹性模量为1.0×109～1.0×1010Pa，
所述硬涂层的膜厚为50～250μm，
所述缓冲层的膜厚为5～75μm，
所述缓冲层的膜厚相对于所述硬涂层的膜厚为3～50％。
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