[发明专利]用于清洁医疗器械并检测其上的残留物的方法和装备在审
| 申请号： | 202010228943.5 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN111744038A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 马尔科·普达斯 | 申请（专利权）人： | 皮考逊公司 |
| 主分类号： | A61L2/20 | 分类号： | A61L2/20;B08B7/00;G01N33/00;A61L101/10 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 王晖;吴莎 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 医疗器械 检测 残留物 方法 装备 | ||
1.一种用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的方法(100)，包括：
(a)获得未经灭菌(102)的或被常规灭菌(103)的医疗器械；
(b)将所述器械装载到沉积和/或分析装备中；
(c)使所述器械暴露(104)于低于100hPa的压力；
(d)使所述器械暴露于(105)对所述残留物有反应性的至少一种气体。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，由此获得的所述医疗器械预先至少部分地施加(101)有化学沉积的涂层。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法，其中，通过原子层沉积(ALD)将所述涂层预先施加到所述医疗器械的至少一部分上。
4.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，在(104)处使所述医疗器械暴露于低于10hPa、优选地低于1hPa、最优选地低于0.1hPa的压力。
5.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，在(105)，所述至少一种气体包含对所述残留物有反应性的化学物质。
6.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，所述医疗器械是多部件医疗器械，诸如内窥镜设备。
7.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，至少在(104)和/或(105)期间，通过至少一个传感器设备(110)来检测和/或量化所述残留物。
8.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，将所述传感器设备(110)配置成对从所述沉积和/或分析装备排出的气体流的至少一部分中的残留物进行检测和/或量化。
9.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，在(104)和/或(105)处检测和/或量化的残留物的浓度超过预定阈值的状况下，使所述医疗器械重回至通过常规方法进行清洁和/或灭菌的程序(103)。
10.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，在(105)处检测和/或量化的残留物的浓度属于预定水平的状况下，使所述医疗器械经受废弃处置。
11.一种用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的沉积和/或分析装备，所述沉积和/或分析装备包括被配置成接收一个或多个医疗器械的至少一个反应室，在所述反应室中，使所述医疗器械暴露于低于100hPa的压力，并且随后暴露于对所述残留物有反应性的至少一种气体，所述装备包括至少一个传感器设备(110)。
12.根据权利要求11所述的沉积和/或分析装备，所述沉积和/或分析装备被配置成化学沉积反应器。
13.根据权利要求11或12中任一项所述的沉积和/或分析装备，所述沉积和/或分析装备被配置成原子层沉积反应器。
14.根据权利要求11至13中任一项所述的沉积和/或分析装备用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的用途。
15.根据权利要求14所述的用途，其中，所述医疗器械是多部件医疗器械，诸如内窥镜。
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