[发明专利]三维衬底的涂层在审
申请号: | 202010231166.X | 申请日: | 2020-03-27 |
公开(公告)号: | CN111748799A | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | M·普达斯;R·里塔萨罗 | 申请(专利权)人: | 皮考逊公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 苏耿辉 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 三维 衬底 涂层 | ||
本发明涉及三维衬底的涂层。衬底处理装置包括:反应室、通向反应室的至少一个涂层材料入口、用以支撑待涂覆的3D衬底的可动衬底支撑件以及致动器,该致动器被配置为在衬底处理期间使衬底支撑件运动,以改变所述3D衬底的取向。一种用于涂覆3D衬底的方法,该方法包括:在反应室内在衬底支撑件上提供3D衬底,将至少一个涂层材料馈送到反应室中;以及在衬底处理期间,通过致动衬底支撑件的运动来改变所述3D衬底的取向。
技术领域
本发明总体上涉及涂层及其制造方法。
背景技术
本部分说明了有用的背景信息,但不接受本文描述的任何技术代表现有技术。
诸如医疗植入物之类的涂层三维(3D)零件可能存在涂层保形性问题。一般来说,ALD能够生产出纵横比高达3000:1的保形涂层,但是这是在使用合适的工艺化学品流程的理想情况下。存在一些前体和工艺条件(诸如较低的所需温度),其中生长行为更多是化学气相沉积(CVD)类型的沉积,而不是纯ALD。另外,通常已知等离子体增强的ALD(PEALD)和光ALD仅沉积在指向等离子体或光子源的表面上。同样在一些情况下,衬底和衬底支架可能具有光滑的相对表面,使得反应性化学品不能渗透以覆盖期望被涂覆的所有表面。
发明内容
本发明的某些实施例的目的是在涂覆3D衬底(substrate)时改善涂层的保形性。
根据本发明的第一示例方面,提供了一种衬底处理装置,包括:
反应室;
通向反应室的至少一个涂层材料入口;
可动衬底支撑件,用以支撑待涂覆的一个3D衬底或多个3D衬底;和
致动器,被配置为在衬底处理期间使衬底支撑件运动,以改变所述3D衬底或所述多个3D衬底的取向。
因此,该装置处理至少一个3D衬底。在某些实施例中,该运动包括摆动运动。在某些实施例中,衬底支撑件是纤维网(web)。在某些实施例中,衬底支撑件包括纤维材料。在某些实施例中,衬底支撑件是织物或包括织物。在某些实施例中,衬底载体是聚合物或包括聚合物。在某些实施例中,衬底支撑件是金属的或包括金属。在某些实施例中,衬底支撑件是陶瓷的或包括陶瓷。
衬底支撑件的运动不必是连续的。在某些实施例中,至少有时使衬底支撑件运动,以改变至少一个3D衬底的取向。在某些实施例中,衬底支撑件的运动是通过至少一个运动零件来实现,或者在一些情况下,衬底支撑件的运动特别是提供诸如辊子之类的旋转零件来实现。在某些实施例中,衬底支撑件是无尾端(never ending)的带。在某些实施例中,衬底支撑件是笔直的线或环形圈的网状物(mesh)(如在锁链中)。
在某些实施例中,装置被配置为通过基本的运动来使至少一个衬底运动,并且在某些实施例中还通过附加的运动来使至少一个衬底运动。在某些实施例中,基本的运动是平移、旋转或摆动运动,而附加的运动例如是振动、摇动或抬升。
在某些实施例中,致动器被配置为在衬底处理期间使衬底支撑件运动,以改变在所述衬底支撑件上的所述至少一个3D衬底的取向。
在某些实施例中,该装置包括敏感模式,以防止损坏敏感衬底。在某些实施例中,敏感模式通过衬底支撑件的柔和(soft)运动来实现。运动的柔和度的定义取决于待涂覆的(多个)衬底的特性。
在某些实施例中,衬底支撑件被提供有衬底无损坏特性。损坏在本文中可能是指机械损坏,例如衬底边缘的压碎。
在某些实施例中,通过具有与(多个)3D衬底接触的非硬表面(即,软表面)的衬底支撑件,来提供衬底无损坏特性。在某些实施例中,通过至少部分地分离或至少部分地封闭的袋,来实现所述无损坏特性。在某些实施例中,衬底支撑件是柔性的。在某些实施例中,衬底支撑件是网。
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