[发明专利]一种复合涂层测磁光纤及其制备方法

权利要求书

1.一种复合涂层测磁光纤，其特征在于，包括裸光纤和涂覆层，所述涂覆层为：内层为丙烯酸树脂涂层、外层为金属合金涂层的复合涂覆层；所述金属合金涂层为铁镓合金和铟铋合金涂层；所述铁镓合金和铟铋合金的质量比为85～95：15～5。

2.如权利要求1所述的复合涂层测磁光纤，其特征在于：所述裸光纤为仅含纤芯的石英芯单模光纤。

3.如权利要求1所述的复合涂层测磁光纤，其特征在于：铁镓合金中铁、镓的质量比为5：1。

4.如权利要求1所述的复合涂层测磁光纤，其特征在于：铟铋合金中铟、铋的质量比为2：1。

5.如权利要求1所述复合涂层测磁光纤的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、采用浸渍涂敷-紫外光固化工艺将丙烯酸树脂涂敷于裸光纤表面，在裸光纤表面形成丙烯酸树脂涂层；

步骤2、将气体雾化法制备的铁镓合金粉末和铟铋合金粉末按质量比85～95：15～5混合均匀，在80℃熔融后放入涂敷杯中；

步骤3、将涂敷了丙烯酸树脂涂层的光纤经过步骤2制备的涂敷杯，在丙烯酸树脂涂层表面涂敷金属合金熔体，然后进行冷却；

步骤4、最终，制备成一种内层为丙烯酸树脂涂层、外层为金属合金涂层的复合涂层测磁光纤；

步骤1中，所述丙烯酸树脂涂层的厚度为10μm～200μm。

6.如权利要求5所述的复合涂层测磁光纤的制备方法，其特征在于：步骤2中，所述铁镓合金和铟铋合金的粒径为5～80μm。

7.如权利要求5所述的复合涂层测磁光纤的制备方法，其特征在于：步骤2中，所述铁镓合金中铁、镓的质量比为5：1，铟铋合金中铟、铋质量比为2：1。

8.如权利要求5所述的复合涂层测磁光纤的制备方法，其特征在于：步骤3中，冷却后金属合金涂层的厚度为10μm～200μm。