[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括：

第一衬底；

设置在所述第一衬底一侧的多个发光器件，所述多个发光器件相互间隔设置；

光线调节层，所述光线调节层位于所述多个发光器件之间的间隙内、以及所述多个发光器件远离所述第一衬底的一侧表面上，以使至少一个发光器件被所述光线调节层包围；所述光线调节层的材料包括吸光材料，被配置为对射向至所述光线调节层的至少一部分光线进行吸收；以及，

覆盖所述光线调节层的第二衬底。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述光线调节层包括：

位于所述多个发光器件之间的间隙内的第一子光线调节层；相对于所述第一衬底，所述第一子光线调节层远离所述第一衬底的表面，与所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面持平，或者，高于或低于所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面；所述第一子光线调节层的材料包括吸光材料，被配置为对射向至所述第一子光线调节层的至少一部分光线进行吸收；以及，

设置在所述第一子光线调节层远离所述第一衬底一侧的第二子光线调节层；相对于所述第一衬底，所述第二子光线调节层远离所述第一衬底的表面，高于所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面；所述第二子光线调节层为透明薄膜。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其中，在相对于所述第一衬底，所述第一子光线调节层远离所述第一衬底的表面，低于所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面的情况下，

所述第二子光线调节层包括第一部分和第二部分，所述第一部分在所述第一衬底上的正投影与所述多个发光器件在所述第一衬底上的正投影重合，所述第二部分在所述第一衬底上的正投影与所述第一子光线调节层在所述第一衬底上的正投影重合，所述第一部分的厚度范围为20μm～100μm，所述第二部分的厚度范围为50μm～100μm。

4.根据权利要求2或3所述的显示基板，其中，所述第二子光线调节层的折射率大于所述第二衬底的折射率。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的显示基板，其中，所述第一子光线调节层远离所述第一衬底的表面与所述第一衬底之间的间距，为所述多个发光器件的厚度的80％～120％。

6.根据权利要求2～5中任一项所述的显示基板，其中，所述光线调节层还包括：

位于所述多个发光器件之间的间隙内、且设置在所述第一子光线调节层与所述第一衬底之间的第三子光线调节层；相对于所述第一衬底，所述第三子光线调节层远离所述第一衬底的表面，与所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面持平，或者，低于所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面；

所述第三子光线调节层的材料包括反光材料，被配置为将由所述多个发光器件入射至所述第三子光线调节层中的光线反射回所述多个发光器件中。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述光线调节层包括：

位于所述多个发光器件之间的间隙内的第三子光线调节层；相对于所述第一衬底，所述第三子光线调节层远离所述第一衬底的表面，与所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面持平，或者，低于所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面；所述第三子光线调节层的材料包括反光材料，被配置为将由所述多个发光器件入射至所述第三子光线调节层中的光线反射回所述多个发光器件中；以及，

设置在所述第三子光线调节层远离所述第一衬底一侧的第一子光线调节层；相对于所述第一衬底，所述第一子光线调节层远离所述第一衬底的表面，高于所述多个发光器件远离所述第一衬底的表面；所述第一子光线调节层的材料包括吸光材料，被配置为对射向至所述第一子光线调节层的至少一部分光线进行吸收。

8.根据权利要求6或7所述的显示基板，其中，所述第三子光线调节层的反射率大于或等于70％。

9.根据权利要求2～7中任一项所述的显示基板，其中，每个发光器件包括：

第三衬底；以及，

设置在所述第三衬底一侧的发光层；所述发光层相对于所述第三衬底靠近所述第一衬底。