[发明专利]基于120度夹角反射曝光叠加的异形芯光纤光栅制备技术有效

专利信息
申请号: 202010233353.1 申请日: 2020-03-29
公开(公告)号: CN111552024B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 汪杰君;胡挺;苑立波 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 120 夹角 反射 曝光 叠加 异形 光纤 光栅 制备 技术
【说明书】:

本发明提供的是一种基于120度夹角反射曝光叠加的异形芯光纤光栅制备装置和方法,装置包括相位掩模板、石英薄片、光纤载板和光纤匹配液,光纤载板一面有镀金属反射膜的V形槽,用于放置待刻写光纤,石英薄片盖在光纤载板上,相位掩模板盖在石英薄片上,光纤匹配液,用于填充光纤载板上V形槽与待刻写光纤之间的空隙。方法包括装置安装、装置调节、光纤准备、光栅刻写和完成制备等步骤,本发明可有效改善刻写光束在光纤横截面内的光强分布,适用于各种异形芯光纤的光栅刻写。

(一)技术领域

本发明涉及光纤光栅制备技术领域,具体涉及一种适用于异形芯光纤的光纤光栅制备技术。

(二)背景技术

光纤光栅指通过一定技术手段在光纤纤芯上构造折射率周期性变化而形成的光栅结构。刻写在单模光纤上的布拉格光纤光栅(FBG)是目前研究最成熟的光纤光栅,该类光栅具有优异的光学窄带滤波特性与传感特性,已经在光电子领域和光纤传感领域有着广泛的应用。近些年来,为满足通信与传感的需求,很多特殊光纤被设计和制作出来,如少模光纤、多芯光纤、环形芯光纤、多包层光纤等等,开展特殊光纤的光栅特性研究也逐年增多,如:魏颖(魏颖,焦明星.保偏光纤Bragg光栅传感特性的实验研究[J].红外与激光工程,2008(37):107-110.)指出在保偏光纤的快轴和慢轴上刻写的FBG对横向负载灵敏度存在差异,可应用到称重等领域;包维佳(包维佳.新型光纤布拉格光栅矢量应变传感器研究[D].西北大学,2018.)研究了在多包层光纤上刻写FBG并实现矢量应变测量;E.Lindley(LINDLEY E,MIN S-S,LEON-SAVAL S,et al.Demonstration of uniform multicorefiber Bragg gratings[J].Optics Express,2014,22(25):31575.)开展了多芯光纤的FBG刻写技术研究,该FBG可用于抑制太空探测中的噪声信号,在天体光子学领域有着非常重要的应用前景。

相位掩模板法是目前广泛使用的光纤光栅刻写方法,该方法通常使用紫外光照射相位掩模板形成衍射条纹,利用±1级衍射条纹侧面曝光光敏光纤制备FBG。该方法大大减低了对光源的相干性要求,而且制备的FBG的布拉格波长只取决于相位掩模板的条纹周期,减低了光栅制备工艺难度。基于紫外激光的相位掩模板法作为最普遍采用的FBG制备方法,为FBG的实用化与产业化奠定了基础。

基于紫外激光的相位掩模板方法也被尝试用于特殊光纤的光栅刻写,但由于特殊光纤的结构与单模光纤存在很大不同,部分特殊光纤属于异形芯光纤,即这类光纤的波导纤芯未处在光纤中心,而是分布在整个光纤界面内。因此,在采用相位掩模板制备光纤光栅时,由于光纤本身的柱状透镜效应,使得从掩模板出射的±1级衍射光束难于在整个光纤横截面上形成均匀光强分布,因而难以制备出高质量的光纤光栅。

为解决上述问题,目前可查阅到两种方法:

(1)文献(LINDLEY E,MIN S-S,LEON-SAVAL S,et al.Demonstration of uniformmulticore fiber Bragg gratings[J].Optics Express,2014,22(25):31575.)提出了一种改进方法:选择一段尺寸合适的石英毛细管,将毛细管一侧打磨一定厚度后抛光,将待刻写光纤插入该毛细管内,使相位掩模板的衍射光束从毛细管的侧抛面照射,以消除光纤本身的柱状透镜效应。

(2)专利(授权号:CN 106249348B)提出一种切趾光纤光栅刻写方法,该方法建议在刻写光栅的同时旋转待刻写光纤,消除由于大芯径导致的光感折射率调制不对称性。

在上述方法(1)中,对石英毛细管实现侧抛的工序复杂,加工时间长,并且为了能让光纤插入毛细管,毛细管内径必然要比光纤直径大,这两者之间填充的空气依然会对刻写结果产生影响;方法(2)中,FBG刻写的同时旋转待刻写光纤,光路的细微不对称性或旋转马达的轻微震动都会影响到FBG的刻写效果。

(三)发明内容

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林电子科技大学,未经桂林电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010233353.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top