[发明专利]MRAM器件及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202010235486.2 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN113471245A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 杨成成;王百钱;何其暘;黄敬勇 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L43/08;H01L43/12
代理公司: 上海德禾翰通律师事务所 31319 代理人: 侯莉
地址: 518118 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: mram 器件 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种MRAM器件的形成方法,其特征在于,包括:

提供基底;

在所述基底上形成底部材料层和位于所述底部材料层上的磁隧道结材料层;

图形化所述磁隧道结材料层并停止于所述底部材料层,使磁隧道结材料层形成磁隧道结结构;

在所述磁隧道结结构的侧部的底部材料层上形成第一介质层;

在所述第一介质层上以及所述磁隧道结结构上形成顶部电极材料层;

刻蚀所述顶部电极材料层、第一介质层和底部材料层,形成位于磁隧道结结构上的顶部电极层和位于磁隧道结结构底部的底部电极层。

2.根据权利要求1所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,所述磁隧道结材料层包括位于所述底部材料层之上的钉扎材料层、位于所述钉扎材料层之上的参考材料层、位于所述参考材料层之上的势垒材料层和位于所述势垒材料层之上的自由材料层;所述磁隧道结结构包括钉扎层、位于钉扎层上的参考层、位于所述参考层上的势垒层和位于势垒层上的自由层;或者,所述磁隧道结材料层包括位于所述底部材料层之上的自由材料层、位于所述自由材料层之上的势垒材料层、位于所述势垒材料层之上的参考材料层和位于所述参考材料层之上的钉扎材料层;所述磁隧道结结构包括自由层、位于自由层上的势垒层、位于所述势垒层上的参考层和位于参考层上的钉扎层。

3.根据权利要求1所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,所述底部材料层包括底部电极材料层和位于所述底部电极材料层之上的种子材料层。

4.根据权利要求3所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,在图形化所述磁隧道结材料层的过程中,将所述种子材料层作为刻蚀停止层;

刻蚀所述顶部电极材料层、第一介质层和底部材料层的步骤包括:刻蚀所述顶部电极材料层、第一介质层、种子材料层和底部电极材料层,使底部电极材料层形成底部电极层,使种子材料层形成位于所述底部电极层之上的种子层。

5.根据权利要求3所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,在图形化所述磁隧道结材料层的过程中,还刻蚀了所述种子材料层以形成种子层,将所述底部电极材料层作为刻蚀停止层。

6.根据权利要求3所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,所述底部电极材料层的材料包括Ta、TaN、Ti或TiN,厚度为15nm~25nm;所述种子层的材料包括Ta或Ru,厚度为1nm~5nm。

7.根据权利要求1所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,还包括:

在所述磁隧道结结构的侧壁形成保护层;所述第一介质层覆盖所述保护层的侧壁。

8.根据权利要求7所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,形成所述保护层和所述第一介质层的步骤包括:在所述磁隧道结结构的侧壁和顶部、磁隧道结结构的侧部的底部材料层表面形成保护材料层;在所述保护材料层上形成第一介质材料层;平坦化所述第一介质材料层和所述保护材料层直至去除所述磁隧道结结构顶部的第一介质材料层和保护材料层,使第一介质材料层形成第一介质层,使保护材料层形成保护层。

9.根据权利要求8所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,形成所述保护材料层的工艺包括化学气相沉积工艺或原子层沉积工艺。

10.根据权利要求7所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,所述保护层的材料包括SiN或SiCN,厚度为10nm~30nm。

11.根据权利要求1所述的MRAM器件的形成方法,其特征在于,还包括:

在图形化所述磁隧道结材料层之前,在所述磁隧道结材料层上形成硬掩模层,所述硬掩模层包括金属硬掩模层和位于所述金属硬掩模层之上的介质硬掩模层;以所述硬掩模层为掩模图形化所述磁隧道结材料层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010235486.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top