[发明专利]一种溴无机盐钙钛矿薄膜及其制备方法和应用有效
申请号: | 202010235696.1 | 申请日: | 2020-03-30 |
公开(公告)号: | CN111403616B | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 方彦俊;秦丰尤;田鸿君;闫敏行;杨德仁 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310013 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 无机盐 钙钛矿 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种溴无机盐钙钛矿薄膜,其特征在于,所述的溴无机盐钙钛矿薄膜具有式(1)所示分子式:[PbBr2-MBr-CsBr-MBr]n-PbBr2(1)
其中,MBr为NaBr、LiBr或KBr;n为1~10;
所述的溴无机盐钙钛矿薄膜中CsBr与PbBr2的摩尔比为2~4:1;所述的溴无机盐钙钛矿薄膜中MBr与PbBr2的摩尔比为1-6:3。
2.一种根据权利要求1所述的溴无机盐钙钛矿薄膜的制备方法,包括:
(1)将需要沉积溴无机盐钙钛矿薄膜的基材置于真空密闭腔室中;
(2)依次开启PbBr2、CsBr和MBr的蒸发源,将PbBr2、CsBr和MBr分层沉积到基材上形成[PbBr2-MBr-CsBr-MBr]钙钛矿层,循环沉积若干周期,在钙钛矿层的最上层沉积单层PbBr2,退火处理,形成溴无机盐钙钛矿薄膜。
3.根据权利要求2所述的溴无机盐钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,所述的真空密闭腔室的温度为≤30℃。
4.根据权利要求2所述的溴无机盐钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,所述的分层沉积的过程中PbBr2的蒸发速率为0.1-0.8°A/s;CsBr的蒸发速率为0.1-1.5°A/s;MBr的蒸发速率为0.04-0.3°A/s。
5.根据权利要求2所述的溴无机盐钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,所述的循环沉积的周期为1-10。
6.根据权利要求2所述的溴无机盐钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,所述的退火处理的温度为50-150℃;时间为5-60min。
7.一种根据权利要求1所述的溴无机盐钙钛矿薄膜在钙钛矿发光二极管中的应用。
8.一种钙钛矿发光二极管,包括,钙钛矿发光层,其特征在于,所述的钙钛矿发光层为权利要求1所述的溴无机盐钙钛矿薄膜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
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H01L51-54 .. 材料选择