[发明专利]一种高纯度硼-10酸痕量杂质去除方法在审
| 申请号： | 202010238940.X | 申请日： | 2020-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN111232998A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 周鸿刚;李长虹;王明辉;韩启超;魏娇 | 申请（专利权）人： | 辽宁鸿昊化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B35/10 | 分类号： | C01B35/10 |
| 代理公司： | 长沙睿翔专利代理事务所(普通合伙) 43237 | 代理人： | 周松华;孙建霞 |
| 地址： | 111003 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纯度 10 痕量 杂质 去除 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高纯度硼-10酸痕量杂质去除方法，其特征在于按照以下步骤进行：
(1)在一定温度下，按照体积比A1：B1＝1:2～8配制溶液C；
(2)在一定温度下，用溶液C煮洗硼-10酸，将硼-10酸中的离子杂质转移至溶液C中；
(3)冷却溶液C至室温，使溶剂A1从C中分离；
(4)将分离出的溶剂A1通过离子交换树脂除去离子杂质；
(5)按上述步骤(2)～步骤(4)反复操作，直至硼-10酸中的离子杂质含量≦1ppm。
2.根据权利要求1所述的一种高纯度硼-10酸痕量杂质去除方法，其特征在于所述的步骤(1)温度为70-80℃。
3.根据权利要求1所述的一种高纯度硼-10酸痕量杂质去除方法，其特征在于所述的溶剂A1具有弱酸性，溶剂B1具有弱碱性；A1和B1的互溶性随温度的升高而增强。
4.根据权利要求3所述的一种高纯度硼-10酸痕量杂质去除方法，其特征在于所述的溶剂A1为饱和碳酸水溶液，溶剂B1为纯异丁醇。
5.根据权利要求1所述的一种高纯度硼-10酸痕量杂质去除方法，其特征在于所述的步骤(2)温度为80～100℃。
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