[发明专利]一种LCD靶材侧面抛光工艺在审
| 申请号： | 202010242843.8 | 申请日： | 2020-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN111421393A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;窦兴贤;王学泽;王青松;谢鹏 | 申请（专利权）人： | 合肥江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B41/04;B24D3/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 lcd 侧面 抛光 工艺 | ||
1.一种LCD靶材侧面抛光工艺，其特征在于，所述抛光工艺为：将LCD靶材固定，将磨头固定于机床，所述机床带动磨头传动，对所述LCD靶材的侧面进行抛光。
2.根据权利要求1所述的抛光工艺，其特征在于，所述磨头为氧化铝磨头。
3.根据权利要求2所述的抛光工艺，其特征在于，所述氧化铝磨头的规格为120#或180#。
4.根据权利要求1-3之一所述的抛光工艺，其特征在于，所述机床的进给速度为1000～3000mm/min。
5.根据权利要求1-4之一所述的抛光工艺，其特征在于，所述机床的转速为500～1500mm/min。
6.根据权利要求1-5之一所述的抛光工艺，其特征在于，所述抛光的时间为20～40min。
7.根据权利要求1-6之一所述的抛光工艺，其特征在于，所述LCD靶材材质为铝或铜。
8.根据权利要求1-7之一所述的抛光工艺，其特征在于，所述LCD靶材为LCD平面靶材。
9.根据权利要求1-8之一所述的抛光工艺，其特征在于，所述LCD靶材为分体型LCD平面靶材；
优选地，所述分体型LCD平面靶材为G6、G8.5、G10.5或G11分体型LCD平面靶材中的一种。
10.根据权利要求1-9之一所述的抛光工艺，其特征在于，所述抛光工艺为：将LCD靶材固定，将氧化铝磨头固定于机床，所述机床带动磨头传动，对所述LCD靶材的侧面进行抛光，所述机床的进给速度为1000～3000mm/min，所述机床的转速为500～1500mm/min，所述抛光的时间为20～40min。
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