[发明专利]一种用于不锈钢手机中框的湿式CMP镜面抛光液及其制备方法

说明书

本发明公开了一种用于不锈钢手机中框的湿式CMP镜面抛光液及其制备方法。由A、B两组分构成，其中A组分由下列重量份的组分制得：有机酸5‑30份、蜡3‑40份、乳化剂4‑20份、去离子水30‑100份。B组分是由下列重量份的组分制得：磨料4‑60份、悬浮剂5‑10份、缓蚀剂1‑5份、防腐剂1‑5份、消泡剂1‑10份、去离子水20‑100份。本发明制备的抛光液分散、悬浮性好，长时间放置不会出现沉淀分层、结块现象；润滑性好，大大降低不锈钢表面刮伤、微裂纹；成分均为水溶性，易于清洗，避免杂质、污物的粘附；出光效果好，抛光后不锈钢表面达到镜面效果；成本低，维护方便，可循环使用。

技术领域

本发明涉及一种用于加工不锈钢手机中框CMP的镜面抛光液，特别涉及一种用于不锈钢手机中框的湿式CMP镜面抛光液及其制备方法，可以将不锈钢手机中框抛光到镜面且富有光泽、无不良缺陷的抛光耗材，属于材料技术领域，具体来说，是一种湿法研磨抛光用的抛光液。

背景技术

自从iPhone 4手机发布以来，其靓丽的外形成为设计的经典，不锈钢中框设计也成手机界争相模仿的典范。虽然不锈钢强度高，但其韧性大、磨料粘附性强、导热性差，摩擦热不易散发等特点，使得不锈钢中框加工难度较大。传统加工方法有电解抛光、化学抛光、机械抛光等。电解抛光与化学抛光采用的抛光液多采用强酸性溶液，对环境污染较大，有损操作人员身体健康。机械抛光多采用砂纸类耗材，金属粉尘污染较严重，工作环境恶劣。最重要的是以上几种方式加工的不锈钢表面很难达到所需的镜面效果。

湿式CMP抛光：抛光介质（如：聚氨酯发泡皮条/羊毛轮等）作高速旋转，抛光液以极高压力喷在被抛光不锈钢表面，能带走不锈钢中框表面与抛光介质接触产生的高温，避免烧伤。抛光液中各种成分综合作用使得切削力高，表面效果好，且可避免员工吸入粉尘，有利于身体健康。抛光液设置循环系统可循环使用，浓度降低时添加抛光液即可，更加经济、方便。废液处理比较简单。

发明内容

针对上述问题，本发明提供了一种专门用于加工不锈钢手机中框的湿式CMP镜面抛光液及其制备方法，该抛光液具有抛光效率高、弱碱性、水溶性好的特点，对环境和操作人员友好，可循环使用，降低生产成本。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下：

一种用于加工不锈钢手机中框的湿式CMP镜面抛光液，所述的抛光液由A、B两种组分组成，其中A组分由下列重量份的组分制得：有机酸5-30份、蜡3-40份、乳化剂4-20份、去离子水30-100份；B组分是由下列重量份的组分制得：磨料4-60份、悬浮剂1-10份、缓蚀剂1-5、防腐剂1-5份、消泡剂1-10份、去离子水20-100份。

进一步，所述有机酸选自甲酸、乙酸、油酸、柠檬酸、硬脂酸、羟基乙酸、聚丙烯酸、丁二酸中的一种或多种。

进一步，所述蜡选自棕榈蜡、石蜡、蜂蜡、微晶蜡、日本木蜡、虫白蜡中的一种或多种。

进一步，所述乳化剂选自三乙醇胺、三乙醇胺油酸皂、十二烷基硫酸钠、油酸钠、OP-10、AEO、NPO、聚乙二醇、壬基酚聚氧乙烯醚、吐温-20、吐温-60、Span-80中的一种或多种。

进一步，所述磨料选自金刚石、立方氮化硼、α-氧化铝、氧化铬、氧化铁中的一种或多种；磨料粒径为1μm以下。

进一步，所述悬浮剂选自六偏磷酸钠、焦磷酸钠、PAAS中的一种或多种。

进一步，所述缓蚀剂选自六次甲基四胺、苯并三氮唑、十六烷胺、聚天冬氨酸、葡萄糖酸钠、石油磺酸钡、松香、石油磺酸钠中的一种或多种。

进一步，所述防腐剂选自苯甲酸钠、山梨酸钠、山梨酸钾、丙酸钙、对羟基苯甲酸丁酯中的一种或多种。

进一步，所述消泡剂选自二甲基硅油、磷酸三丁酯、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚中的一种或多种。