[发明专利]深度测量方法、装置和终端设备在审

专利信息
申请号: 202010244769.3 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN113470096A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 向显嵩;江超;刘昆;王世通;鲍文 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: G06T7/55 分类号: G06T7/55;G01S17/08;G01S17/894;G01S7/48
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 任敏
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 深度 测量方法 装置 终端设备
【权利要求书】:

1.一种深度测量方法,其特征在于,包括:

分别采集当前场景在至少两种测量频率下的深度图像,所述至少两种测量频率至少包括第一频率和第二频率,所述第一频率大于所述第二频率,所述深度图像包括多个像素点;

确定每个像素点的多个候选融合深度,以及确定每个像素点的相对深度;

根据目标像素点的多个候选融合深度和相对深度,识别所述目标像素点的融合深度,所述目标像素点为所述多个像素点中的任意一个;

基于多个目标像素点的融合深度,生成所述当前场景的目标深度图像。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定每个像素点的多个候选融合深度,包括:

分别获取每个像素点在第一频率下的第一深度值;

根据所述第一深度值,计算所述每个像素点的多个候选融合深度。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一深度值,计算所述每个像素点的多个候选融合深度,包括:

确定所述第一频率对应的测量量程;

分别计算每个像素点的第一深度值与所述第一频率对应的测量量程的多个非负整数倍数值之和,将所述第一深度值与所述多个非负整数倍数值之和作为所述每个像素点的多个候选融合深度。

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其特征在于,所述确定每个像素点的相对深度,包括:

分别获取每个像素点在第二频率下的第二深度值;

按照所述第二深度值由小到大的顺序,对所述每个像素点进行排序;

确定所述每个像素点在排序后的初始排序序号,将所述初始排序序号作为所述像素点的相对深度。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据目标像素点的多个候选融合深度和相对深度,识别所述目标像素点的融合深度,包括:

分别确定目标像素点的每个候选融合深度与所述目标像素点的相对深度之间的相对位置变化量;

将所述相对位置变化量最小值对应的候选融合深度识别为所述目标像素点的融合深度。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述分别确定目标像素点的每个候选融合深度与所述目标像素点的相对深度之间的相对位置变化量,包括:

将所述目标像素点的每个候选融合深度插入按照第二深度值进行排序的序列中;

计算所述每个候选融合深度在所述序列中的排序序号与所述目标像素点的初始排序序号之间的序号值之差,将所述序号值之差作为所述相对位置变化量。

7.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其特征在于,所述确定每个像素点的相对深度,包括:

分别获取每个像素点在第二频率下的第二深度值;

计算所述每个像素点的每个候选融合深度与所述第二深度值之间的距离差值;

提取所述距离差值的最小值,作为对应的像素点的最小融合距离;

根据所述最小融合距离,确定所述每个像素点的相对深度。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述根据所述最小融合距离,确定所述每个像素点的相对深度,包括:

识别所述最小融合距离小于预设阈值的像素点为参考像素点;

按照所述第二深度值从小到大的顺序,对所述参考像素点进行排序;

确定每个参考像素点在排序后的初始排序序号,将所述初始排序序号作为所述参考像素点的相对深度;

针对任一非参考像素点,将所述非参考像素点的第二深度值插入所述参考像素点的排序序列中;

确定所述非参考像素点的第二深度值在所述参考像素点的排序序列中的排序序号,将所述排序序号作为所述非参考像素点的相对深度。

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