[发明专利]定位方法及装置、设备、介质在审

专利信息
申请号: 202010246236.9 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN113470111A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 王志伟;梁浩博;李建明 申请(专利权)人: 纳恩博(北京)科技有限公司
主分类号: G06T7/73 分类号: G06T7/73
代理公司: 北京太合九思知识产权代理有限公司 11610 代理人: 孙明子;刘戈
地址: 100192 北京市海淀区西小口路66号*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 定位 方法 装置 设备 介质
【权利要求书】:

1.一种定位方法,其特征在于,应用于待定位主体,所述待定位主体所处物理空间中布置有反光体,所述定位方法包括:

向周围环境发射扫描信号,以获得所述周围环境对应的点云数据;

根据筛选条件从所述点云数据中筛选出与所述反光体匹配的多个目标点,所述筛选条件包括所述反光体的结构特征;

根据所述多个目标点到各自匹配的所述反光体的相对距离,确定所述待定位主体相对所述反光体的第一位姿。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述筛选条件还包括反光强度阈值;

所述根据筛选条件从所述点云数据中筛选出与所述反光体匹配的多个目标点,包括:

根据所述点云数据中包括各点的反光强度,以及所述结构特征和所述反光强度阈值,从所述点云数据中筛选出与所述反光体匹配的所述多个目标点。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述点云数据中包括各点的反光强度,以及所述结构特征和所述反光强度阈值,从所述点云数据中筛选出与所述反光体匹配的所述多个目标点,包括:

根据所述各点的反光强度和所述反光强度阈值从所述点云数据中筛选出多个候选点,其中,所述多个候选点的反光强度大于或等于所述反光强度阈值;

从所述多个候选点中筛选出与所述结构特征匹配的所述多个目标点。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述结构特征包括:形状和/或尺寸特征。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述反光体的数量为多个,多个反光体的结构特征中包括:多个反光体之间的位置关系特征。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述反光体包括第一反光体和第二反光体,所述第一反光体与所述第二反光体的结构特征包括:所述第一反光体与所述第二反光体具有预设长度的尺寸特征,所述第一反光体与所述第二反光体之间的夹角呈预设角度的位置关系特征;

所述根据筛选条件从所述点云数据中筛选出与所述反光体匹配的多个目标点,包括:

根据所述预设长度和所述预设角度,对所述点云数据进行线段拟合,以得到与所述第一反光体对应的第一线段以及与所述第二反光体对应的第二线段;

从所述点云数据中确定与所述第一线段匹配的多个第一目标点以及与所述第二线段匹配的多个第二目标点,并以所述多个第一目标点和所述多个第二目标点构成所述多个目标点。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述多个目标点到各自匹配的所述反光体的相对距离,确定所述待定位主体相对所述反光体的第一位姿,包括:

根据点云坐标系与物理空间坐标系之间的映射关系,确定所述多个目标点在所述物理空间坐标系中各自对应的映射坐标;

根据所述反光体在所述物理空间坐标系中对应的位置坐标,确定多个映射坐标分别到各自匹配的位置坐标的距离函数,所述距离函数为关于待定位主体在物理空间坐标系中的位姿变量的函数;

确定得到的多个距离函数之和最小时对应的位姿变量值作为所述第一位姿。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

获取所述待定位主体已移动路线对应的里程计数据;

根据所述里程计数据确定所述待定位主体在所处物理空间中的第二位姿;

根据所述第二位姿对所述第一位姿进行优化,得到所述待定位主体相对所述反光体的第三位姿。

9.一种定位装置,其特征在于,应用于待定位主体,所述待定位主体所处物理空间中布置有反光体,所述定位装置包括:

扫描模块,用于向周围环境发射扫描信号,以获得所述周围环境对应的点云数据;

筛选模块,用于根据筛选条件从所述点云数据中筛选出与所述反光体匹配的多个目标点,所述筛选条件包括所述反光体的结构特征;

定位模块,用于根据所述多个目标点到各自匹配的所述反光体的相对距离,确定所述待定位主体相对所述反光体的第一位姿。

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