[发明专利]一种辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备及其方法

说明书

本发明公开了一种辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备及其方法，所述辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备包括金属粉筒单元、电极单元(图中未示出)及辊轮单元，所述金属粉筒单元的结构形式是带搅拌片和搅拌颗粒的圆柱形空心桶，用于承载电极单元，所述电极单元与金属粉筒单元连接，用于在金属粉筒单元内部放电产生等离子体，所述辊轮单元与金属粉筒单元连接，用于给金属粉筒单元提供动力。所述设备的使用方法如下：根据目标产品选择具有合适的弯折角度的搅拌片，随着金属粉筒单元的滚动，所述设备内的工业粉体在搅拌片和搅拌颗粒作用下，由金属粉筒单元上方不同位置均匀下落，从而充分利用设备内部放电空间，提高等离子体对工业粉体处理的均匀性。

技术领域

本发明涉及等离子体处理的技术领域，具体地说是一种辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备及其方法。

背景技术

随着高性能结构材料技术和先进材料加工技术的快速发展，人们对材料的韧性和刚性、环保性、循环利用性和使用寿命等提出了更高的要求。因此，通过对材料表面处理来改变材料表面的形态、化学成分、组织结构等性质以提高材料各方面性能的技术在近年来得到了迅速发展。在物理处理、化学处理和机械处理等众多表面处理方法中，等离子体表面处理技术因其清洁高效、能耗低、无废弃物等优点而快速发展。目前，针对不同的产业应用，不同物料形状和材质的等离子体处理技术已经出现明显分工。真空等离子体由于具有较好的重复性和全覆盖性，在工业领域得到了较为广泛的应用。但主要应用在对块状材料的表面处理中。

粉体材料，包括食品领域的香辛料以及工业领域的工业粉体材料，由于其表面积大，因此非常容易团聚，同时由于等离子体与材料的反应仅限于材料表面，堆积状态下的粉体材料在等离子体环境中只有表层能得到处理，且由于微粒间的团聚使得没有暴露在表面的部分得不到等离子体处理，难以实现对微粒表面全部处理，导致处理不完全、不均匀，处理效果差。

中国专利(CN201380032762.3)公开了一种粉末等离子体处理装置。粉末等离子体处理装置包括：腔体，其用于对粉末进行等离子处理；粉末供应部，其位于所述腔体的上部；以及多个板状的面放电等离子模块，其位于所述粉末供应部的下方，并且位于所述腔体内，其中所述面放电等离子模块的面和面之间彼此相隔。这种粉末等离子处理装置能够通过控制粉末接触等离子体的时间对粉末进行有效处理。但是由于粉末从粉末供应部自由落下，在所述腔体内部的空间位置关系相对固定，往往只能对分布于表层的粉末进行等离子体处理，处理效果的均匀性难以保证。

因此，如何提供一种工业粉体处理设备及其方法，在现有等离子体处理粉体的技术基础上，通过改进工业粉体在装置内部的运动方式，充分利用放电空间，提高等离子体对工业粉体处理的均匀性，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本申请的目的在于提供一种辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备及其方法，采用带有搅拌片和搅拌颗粒的金属粉筒，搅拌片带动工业粉体和搅拌颗粒在装置内运动，运动过程中搅拌颗粒将部分团聚的工业粉体打散，通过调整搅拌片的角度实现工业粉体从所述金属粉筒上方多个位置落下，充分利用设备内部放电空间，提高等离子体对工业粉体处理的均匀性，进而达到处理效果好、设备操作简单、安全可靠等技术效果。

为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。

一种辊轮驱动的滚筒式工业粉体处理设备，包括金属粉筒单元、电极单元及辊轮单元，所述金属粉筒单元的结构形式是带搅拌片的圆柱形空心桶，用于承载电极单元，所述电极单元与金属粉筒单元连接，用于在金属粉筒单元内部放电产生等离子体，所述辊轮单元与金属粉筒单元连接，用于给金属粉筒单元提供动力；

所述金属粉筒单元，其包括金属粉筒、搅拌片、大法兰盘、结构法兰盘，所述金属粉筒位于金属粉筒单元的中心，所述搅拌片设置于所述金属粉筒内侧，所述大法兰盘分别设置于所述金属粉筒的两端，所述结构法兰盘设置于所述大法兰盘中央；