[发明专利]一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备方法及装置在审
| 申请号： | 202010249475.X | 申请日： | 2020-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN111521282A | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 张丽 | 申请（专利权）人： | 张丽 |
| 主分类号： | G01J9/00 | 分类号： | G01J9/00;G02B27/00 |
| 代理公司： | 深圳市道勤知酷知识产权代理事务所(普通合伙) 44439 | 代理人： | 何兵;饶盛添 |
| 地址： | 200000 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 平面波 畸变 校正 标准 参考 光源 制备 方法 装置 | ||
1.一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
选取任意波长的激光作为参考光；
所述参考光的光束经短焦透镜汇聚在一个小孔上，得到一个近似标准的点光源；
选择一的凹面镜放置在离小孔的距离与所述凹面镜的焦距距离相等的位置，所述点光源的光到达所述凹面镜后变为平行光；
所述平行光反射进入哈德曼波前传感器，采集处理得到标准参考光源。
2.根据权利要求1所述的一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备方法，其特征在于，所述凹面镜的焦距为五米，所述凹面距离所述小孔为五米。
3.根据权利要求1所述的一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备方法，其特征在于，所述参考光的波长为795nm。
4.根据权利要求1所述的一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备方法，其特征在于，所述参考光为He-Ne光。
5.根据权利要求1所述的一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备方法，其特征在于，所述小孔的直径为5μm。
6.一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备装置，其特征在于，包括激光器、短焦透镜、小孔、凹面镜和哈德曼波前传感器，所述激光器发射的参考光依次经过所述短焦透镜、所述小孔、所述凹面镜后进入所述哈德曼波前传感器。
7.根据权利要求6所述的一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备装置，其特征在于，所述凹面镜与所述小孔的距离为所述凹面镜的焦距。
8.根据权利要求6所述的一种平面波前畸变校正的标准参考光源的制备装置，其特征在于，所述小孔的直径为5μm。
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