[发明专利]确定质量粒子束的波前的方法和设备在审

专利信息
申请号: 202010252717.0 申请日: 2020-04-01
公开(公告)号: CN111799142A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: J.韦尔特;M.鲍尔 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: H01J37/26 分类号: H01J37/26;G21K1/06;G03F1/86;G01T1/29
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 确定 质量 粒子束 方法 设备
【权利要求书】:

1.用于确定质量粒子束(225、510、1910)的波前(550)的方法(3300),该方法(3300)包括下列步骤:

a.在不同记录条件(315、325)下使用该质量粒子束(225、510)记录(3320)参考结构(130)的两个或多个图像(310-390);

b.以该参考结构(130)的修改的参考图像(480)产生(3330)两个或多个记录的图像(310-390)的点扩散函数(1750);以及

c.为确定该波前(550),基于产生的点扩散函数(1750)和该不同记录条件(315、325)执行(3340)该质量粒子束(225、510)的相位重建。

2.根据权利要求1所述的方法(3300),其中该不同记录条件(315、325)包括该质量粒子束(225、510)的来源(205)和/或成像系统(220)的不同参数设定和/或检测设备(230、240)的不同参数设置,所述检测设备记录所述图像(310-390)。

3.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中当记录所述两个或多个图像(310-390)时,所述不同记录条件(315、325)包含该质量粒子束(225、510)的不同聚焦设定(315、325)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中该参考结构(130)的参考图像(450)代表使用该质量粒子束(225、510)对该参考结构(130)的至少一个记录,其中该参考结构(130)配置在该质量粒子束(225、510)的焦点上。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中当记录该参考结构(130)的两个或多个图像(310-390)时,该参考结构(130)的修改的参考图像(480)实质上校正假影(430、440、460)。

6.根据权利要求5所述的方法(3300),其中假影(430、440、460)是由以下原因造成:当使用该质量粒子束(225、510)对该参考结构(130)成像时,由该质量粒子束(225、510)对该参考结构(130)的静电充电和/或所述两个或多个记录的图像(310-390)中的该参考结构(130)的至少一个边缘(470)的至少一个边缘效应(460)。

7.根据权利要求5或6所述的方法(3300),其中校正该至少一个假影(430、440、460)包括:确定该参考结构(130)的静电充电的效应和/或所述两个或多个记录的图像(310-390)中的至少一个边缘效应(460)的效应。

8.根据权利要求7所述的方法(3300),其中确定该参考结构(130)的静电充电(420)的效应和/或该至少一个边缘效应(460)的效应包括:仿真该参考结构(130)的静电充电(420)和/或该至少一个边缘效应(460)。

9.根据权利要求5至8中任一项所述的方法(3300),其中校正该至少一个假影(430、440、460)包括修改该参考结构(130)的参考图像(450)。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中产生点扩散函数(1750)包括:以该参考结构(130)的修改的参考图像(480)对所述两个或多个记录的图像(310-390)进行反卷积。

11.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(3300),其中该修改的参考图像(480)对应于未修改的参考图像(450)。

12.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),还包括下列步骤:使用该质量粒子束(225、510)提供该参考结构(130)和/或特征化该参考结构(130)。

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