[发明专利]确定质量粒子束的波前的方法和设备在审
申请号: | 202010252717.0 | 申请日: | 2020-04-01 |
公开(公告)号: | CN111799142A | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | J.韦尔特;M.鲍尔 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | H01J37/26 | 分类号: | H01J37/26;G21K1/06;G03F1/86;G01T1/29 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 确定 质量 粒子束 方法 设备 | ||
1.用于确定质量粒子束(225、510、1910)的波前(550)的方法(3300),该方法(3300)包括下列步骤:
a.在不同记录条件(315、325)下使用该质量粒子束(225、510)记录(3320)参考结构(130)的两个或多个图像(310-390);
b.以该参考结构(130)的修改的参考图像(480)产生(3330)两个或多个记录的图像(310-390)的点扩散函数(1750);以及
c.为确定该波前(550),基于产生的点扩散函数(1750)和该不同记录条件(315、325)执行(3340)该质量粒子束(225、510)的相位重建。
2.根据权利要求1所述的方法(3300),其中该不同记录条件(315、325)包括该质量粒子束(225、510)的来源(205)和/或成像系统(220)的不同参数设定和/或检测设备(230、240)的不同参数设置,所述检测设备记录所述图像(310-390)。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中当记录所述两个或多个图像(310-390)时,所述不同记录条件(315、325)包含该质量粒子束(225、510)的不同聚焦设定(315、325)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中该参考结构(130)的参考图像(450)代表使用该质量粒子束(225、510)对该参考结构(130)的至少一个记录,其中该参考结构(130)配置在该质量粒子束(225、510)的焦点上。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中当记录该参考结构(130)的两个或多个图像(310-390)时,该参考结构(130)的修改的参考图像(480)实质上校正假影(430、440、460)。
6.根据权利要求5所述的方法(3300),其中假影(430、440、460)是由以下原因造成:当使用该质量粒子束(225、510)对该参考结构(130)成像时,由该质量粒子束(225、510)对该参考结构(130)的静电充电和/或所述两个或多个记录的图像(310-390)中的该参考结构(130)的至少一个边缘(470)的至少一个边缘效应(460)。
7.根据权利要求5或6所述的方法(3300),其中校正该至少一个假影(430、440、460)包括:确定该参考结构(130)的静电充电的效应和/或所述两个或多个记录的图像(310-390)中的至少一个边缘效应(460)的效应。
8.根据权利要求7所述的方法(3300),其中确定该参考结构(130)的静电充电(420)的效应和/或该至少一个边缘效应(460)的效应包括:仿真该参考结构(130)的静电充电(420)和/或该至少一个边缘效应(460)。
9.根据权利要求5至8中任一项所述的方法(3300),其中校正该至少一个假影(430、440、460)包括修改该参考结构(130)的参考图像(450)。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),其中产生点扩散函数(1750)包括:以该参考结构(130)的修改的参考图像(480)对所述两个或多个记录的图像(310-390)进行反卷积。
11.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(3300),其中该修改的参考图像(480)对应于未修改的参考图像(450)。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法(3300),还包括下列步骤:使用该质量粒子束(225、510)提供该参考结构(130)和/或特征化该参考结构(130)。
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